8月6日，全球领先的先进技术陶瓷制造商CoorsTek宣布在韩国庆尚北道龟尾市隆重开设其第三家工厂。CoorsTek自1992年进入韩国以来，一直在龟尾工厂投资研究和制造设施，将通过新建龟尾第三工厂来响应半导体市场快速变化的需求，并为韩国半导体生态系统的发展做出贡献。

CoorsTek龟尾第三工厂开设仪式。（图片来源：CoorsTek）

CoorsTek计划将龟尾第三工厂用作新产品导入中心，以确保及时交付客户所需的高质量产品。CoorsTek计划具体通过新工厂引进CVD SiC制造工艺，开发和量产适用于各种应用的最佳材料。新的龟尾第三工厂将成为CoorsTek进行尖端研发和扩大半导体设备部件生产以满足市场需求的关键设施。

CVD SiC是一种自2010年以来通过持续研究而不断进步的高效半导体材料。在与庆尚北道和龟尾市签署了投资先进陶瓷制造设施的谅解备忘录后，CoorsTek在龟尾国家工业园区建造了第一家龟尾工厂。这为其在亚洲的生产设施打造中心奠定了基础。CoorsTek意识到半导体需求的增长和韩国半导体材料行业的竞争力，计划今年在龟尾开设第三家工厂，并在2020年扩建龟尾第二工厂，以加强其在龟尾的制造竞争力。

译者注：

CVD是一种通过化学反应在基材表面沉积薄膜的工艺。在SiC的制造过程中，CVD技术用于将硅和碳源转化为SiC薄膜。在半导体制造业，CVD SiC常用在MOSFET、IGBT等功率器件，高频、高功率通信设备，以及高温环境下的传感器、探测器和其他电子器件中。

编译整理 YUXI