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研磨抛光是通过机械、化学或电化学的方法,使工件表面的粗糙度降低,以获得光亮、平整的表面,是提高产品质量和性能的重要手段。随着经济的稳步增长和工业化的深入发展,研磨抛光行业的下游需求持续增加,尤其是在汽...
7月25日,村田宣布量产全球首款在1608M(1.6毫米×0.8毫米×0.8毫米)尺寸中实现最大电容100μF的MLCC产品,它可以在高达105℃的高温环境下使用,意味着可以靠近IC,胜任包括人工智能和数据中心等高性能IT设备应用场景。...
湖北硅元新材料科技有限公司二期项目拟于今年试投产,届时制备CMP研磨料的电子级四甲氧基硅烷产量将达到3000吨/年。二期项目规划产品医用有机硅项目产品近几年,美国对我国半导体领域的制裁手段日益频繁,许多国家跟...
7月23日,中国电子材料行业协会官网发函,批准发布团体标准《99氧化铝陶瓷用造粒粉》,并予以公示,团体标准编号为“T/CEMIA040-2024”,实施日期是10月1日。99氧化铝陶瓷是先进陶瓷领域约定俗成的称呼,顾名思义即氧...
3C(计算机、通信、消费电子)玻璃制品的减薄和抛光是两道实现产品性能提升的关键步骤和工艺。减薄可以减轻屏幕的重量,提高散热和柔韧性;抛光则可以提升屏幕光学、密封以及耐磨性。其中,研磨垫主要用于玻璃表面的...
包括气流粉碎系统的动力核心在内,空气压缩机是在粉体工业诸多重要系统中得到广泛应用的关键装备。山东众海机械有限公司(众海机械)专注于节能螺杆空压机的创新和研发,其推出的永磁变频两级压缩系列空压机主打节能...
在当今科技高速发展的时代,新材料的研发与应用无疑成为推动科技进步的重要引擎。以碳化硅为代表的第三代半导体具有禁带宽度大、饱和电子漂移速率高、击穿电场高、热导率高等特点,特别适合于制造高频、大功率、抗辐...
精密研磨抛光技术是当下把控电子制造业发展的一项关键技术,也是关系到产品质量水准的一大关键因素,研磨抛光本质上是为了获得超光滑、超精密、无损伤、无缺陷的晶圆表面,以方便后续光刻得以顺利进行。为了能够达到...
2024年7月19日下午,珠海市香洲区商务局周科球局长,珠海国际会展中心何宇总经理一行莅临中国电子材料行业协会粉体技术分会、粉体圈考察指导工作。粉体技术分会秘书长、粉体圈负责人孙柯对平台运营的内容作了汇报,...
随着新兴科技产业的快速发展及对器件表面要求的不断提高,化学机械抛光(ChemicalMechanicalPolishing,简称CMP)技术作为目前唯一能兼顾表面全局和局部平坦化的抛光技术,可通过机械磨损与化学腐蚀的协同作用,得到...
采访韦家谋博士——探索芯片抛光“无人区”
夏阳新材料:打造先进陶瓷的多样化、定制化解决方案(案例分享篇)