随着光电成像、精密光学、车载光学、激光仪器等领域飞速发展，市场对光学玻璃元件的表面精度、平整度、透光性及良品率提出了极致化要求，这迫使光学超精密研磨抛光工艺向更高精度、更高品质方向升级。

在光学抛光工艺中，粉体材料是决定抛光质量、加工效率与工件表面完整性的关键因素，其中，二氧化铈凭借优异的化学活性、适配硬度与磨削性能，已成为光学玻璃抛光领域应用最广、性价比优异的核心稀土抛光材料。但在超镜面、超高精度抛光场景中，传统不规则形貌的氧化铈粉体弊端凸显。常规颗粒状氧化铈在高速磨抛中易碎裂，产生带尖锐棱角的细微碎屑，极易造成玻璃表面微划痕、麻点等缺陷，破坏工件表面均匀度，无法兼顾抛光效率与镜面加工质量，成为高端光学玻璃精密加工的主要技术瓶颈。

针对这一行业痛点，具备二维平面结构的片状氧化铈成为抛光材料领域的研究热点与技术突破口，其具有的大径厚比的独特优势，既保留了微米粉体的高切削加工效率，又能实现纳米粉体抛光的超高光洁度效果，完美适配高端光学玻璃超精密加工需求。同时，片状颗粒在磨抛过程中不会碎裂产生尖锐碎屑，仅会逐步钝化圆润，从源头减少抛光损伤，为高品质光学抛光提供了全新技术方案。

为推动新型抛光材料落地应用，2026年7月15–16日于江苏·无锡举办的“2026年第四届精密研磨抛光材料及加工技术发展论坛”上，粉体圈特邀特邀深耕稀土抛光粉领域20年、拥有丰富科研与实战积淀的北京工业大学材料学院梅燕正高级实验师莅临分享报告《片状氧化铈对光学玻璃的抛光效果研究》，届时，她带来其在片状氧化铈抛光材料领域的多年研究成果与实战经验。报告内容包括：

1）形貌各异的氧化铈的抛光特点；

2）片状氧化铈抛光粉的制备工艺；

3）片状氧化铈对光学玻璃工件的抛光效果影响；

4）片状氧化铈抛光粉的进一步研究。

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报告人介绍

梅燕，北京工业大学材料学院教授/硕士生导师。自2003年开始立足我国稀土铈基CMP抛光磨料及抛光液的研究，博士论文题目为：CMP稀土抛光液的制备及超光滑硅片的化学机械抛光研究。

20年来一直从事稀土抛光粉的制备及抛光性能的研究工作，积累了丰富的实验经验，同时与国内相关CMP抛光加工生产企业、应用单位等建立了紧密的合作关系，并已合作开展过生产及应用方面的研究，在CMP抛光磨料制备、CMP抛光液的研制、过程工艺、反应机理研究等方面均取得多项研究积累。

作为第一负责人，曾主持“国家重点研发计划项目---稀土专项”课题、国家863重大项目子课题、北京市教委项目、企事业委托项目等多个科研项目等。以第一作者发表发表稀土抛光专业的文章30余篇，以第一发明人获得国家发明专利10余项。

抛光论坛会务组