上海光机所顿爱欢博士:高纯熔融石英元件超低缺陷表征、控制及去除工艺研究(报告)

发布时间 | 2026-07-07 23:57 分类 | 行业要闻 点击量 | 32
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导读:在即将于7月15-16日在江苏·无锡举办“2026年全国精密研磨抛光材料及加工技术发展论坛(第四届)”上,中国科学院上海光学精密机械研究所正高级工程师顿爱欢将带来《高纯熔融石英元件超低缺陷表征...

在高功率激光装置、惯性约束聚变、极紫外光刻以及大型光学工程等领域,高纯熔融石英元件是实现高能量传输与精密光束控制的重要基础材料。

然而,在传统研磨抛光过程中,元件表面及亚表面往往会引入大量微裂纹、划痕和结构损伤等残留缺陷。这些缺陷不仅会降低元件的光学性能,更容易成为激光损伤的诱发源,限制其在高能激光环境下的服役能力。如何实现熔融石英元件超低缺陷加工与高损伤阈值制造,已成为先进光学制造领域的重要研究方向。

光学用熔融石英元件

光学用熔融石英元件

在即将于7月15-16日在江苏·无锡举办“2026年全国精密研磨抛光材料及加工技术发展论坛(第四届)”上,中国科学院上海光学精密机械研究所正高级工程师顿爱欢将带来《高纯熔融石英元件超低缺陷表征、控制及去除工艺研究》专题报告,系统介绍团队在熔融石英元件缺陷检测、损伤控制及激光修复方面取得的最新研究成果。

报告指出,传统加工技术属于典型的接触式加工模式,难以避免亚表面损伤的产生。针对这一难题,研究团队结合传统抛光工艺与新型激光抛光技术,通过传统加工不同工序的缺陷控制以及激光抛光技术的迭代与优化,实现了高损伤阈值熔融石英光学元件的制备。

在缺陷表征方面,该团队创新采用激光均匀逐层烧蚀技术,可对元件全孔径范围内的亚表面损伤进行三维表征,实现对缺陷尺寸、分布及演化规律的精准分析,进而实现对亚表面缺陷的有效管控。

在缺陷去除与性能提升方面,激光抛光技术展现出显著优势,采用新型工艺加工的高纯熔融石英元件损伤阈值显著提高:在零损伤概率下提升41%,在100%损伤概率下提升65.7%。这一成果充分证明了该技术在提升光学元件抗损伤性能方面的巨大潜力。

随着高功率激光系统不断向更高能量方向发展,对光学元件加工质量要求也日益严苛。如何实现从缺陷检测、表征到控制、去除的全流程优化,已成为提升光学元件服役性能的重要路径。如果您对该报告内容感兴趣,欢迎点击“阅读原文”查看会议详情及报名!

关于报告人


顿爱欢,男,博士,中国科学院上海光学精密机械研究所博士毕业,正高级工程师、中国科学院知识产权专员、上海市嘉定区2024年技术能手,主要从事先进光学制造装备及技术、先进光学检测装置及技术研发;在大口径光学元件确定性环形抛光工艺、大口径环形抛光装备创新设计及升级、先进数控加工工艺技术、特种材料加工工艺及技术等方面体现出较强的技术特色。作为项目负责人承担国家重大专项、国家自然科学基金、上海市文创基金等项目;作为副主任设计师及核心人员,承担并参与国家XX专项、X6专项、科技部专项、中科院仪器专项、上海市经信委等项目,累计经费达5000万元;发表学术论文20余篇,授权发明专利近30项。

 

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作者:粉体圈

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