随着半导体集成电路5nm甚至2nm时代的到来，作为芯片制造“平坦化”关键环节的化学机械抛光(CMP)也迎来更严苛的挑战：在实现超高材料去除率（MRR）的同时，还要获得原子级光滑（Ra < 0.2 nm）、无缺陷的晶体表面。30 nm纳米氧化铈抛光粉正是回应这一挑战的关键磨料——有研究表明，30 nm级别的均匀颗粒，可实现Ra低至0.07 nm的原子级表面平整度，并且纳米级颗粒提供了巨大的比表面积，增强了CeO₂与工件表面的化学反应效率，由此进一步增强化学活性并改善抛光性能。但是，目前国内外商业化的氧化铈磨料仍以亚微米等级为主，30 nm级产品的开发仍是技术难点。

7月15-16日，于江苏无锡举办的2026年全国精密研磨抛光材料及加工技术发展论坛（第四届）上，河北工业大学化工学院博士生导师，张建斌教授将作题为“纳米氧化铈材料高效与精准制备关键技术”报告，除了30 nm纳米氧化铈制备及基础理化性质，内容还包括后续稳定悬浮的纳米氧化铈水相分散液和透明氧化铈溶液的制备——稳定悬浮意味着在根本上减少团聚大颗粒，降低划痕风险；透明溶液反映的是纳米颗粒的分散状态与粒径尺寸。

CMP工艺中，氧化铈抛光粉决定性能上限，分散液关乎工艺水平，透明溶液反馈精度水平，张建斌教授的报告将完整剖析展现CMP技术链条，不仅对CMP抛光液研发提供方向指引，还为上游粉体产品研发人员提供涵盖粒径控制、表面改性、分散稳定等关键技术的系统性参考，并且还为光学玻璃、手机玻璃、LCD/OLED玻璃基板、精密陶瓷等其他领域精密抛光应用提供参考价值。

报告人简介

张建斌：河北工业大学化工学院教授/博士生导师，教育部新世纪优秀人才、省级杰出青年基金获得者、省级优秀科技工作者。博士毕业于北京大学化学与分子工程学院，美国麻省理工学院访问学者。主要从事纳米氧化铈材料的技术研发、钙基固废减量化与资源化、CO₂的捕集与矿化等领域的研究工作，主持和参与各类科研项目40余项，发表SCI检索论文220篇，获授权发明专利10项。曾获省化科技进步二等奖1项（2016）、省级自然科学二等奖2项（2013、2019）、内蒙古草原英才(2013、2018)、内蒙古优秀科技工作者(2018)、河北工业大学特聘教授(2021)等。

粉体圈整理