日程出炉!2026精密研磨抛光材料技术论坛

发布时间 | 2026-07-01 14:07 分类 | 行业要闻 点击量 | 14
论坛 稀土 磨料 石英 百特 金刚石 粒度仪 碳化硅 氧化硅
导读:粉体圈将于2026年7月15–16日在江苏·无锡举办“2026年精密研磨抛光材料及加工技术发展论坛(第四届)”。

随着半导体、高端器械、航空航天等产业快速发展,精密部件对表面粗糙度的要求已达亚纳米甚至原子级。精密研磨抛光作为核心后道工艺,正经历材料与工艺的系统升级。加工对象日趋复杂,抛光磨料的评价标准也从去除效率转向稳定性、洁净度与可控性,其中粒径分布、大颗粒控制、金属杂质及批次一致性成为核心挑战。国产抛光材料在碳化硅、部分半导体衬底及光学抛光领域已达国际一流水平,但在IC前道CMP、高端掩模版抛光等方面仍面临验证周期长、工艺窗口窄等门槛,竞争已转向材料、工艺、装备与检测协同的系统竞争。

为促进研磨抛光领域新材料与新技术的交流,粉体圈将于2026年7月15–16日江苏·无锡举办“2026年精密研磨抛光材料及加工技术发展论坛(第四届)”。会议将汇聚上下游企业研发负责人、科研院所专家及产业投资机构,围绕磨料制备、工艺创新、抛光装备与产业应用展开深入研讨,助力中国精密制造持续向高端迈进。

7月15日  会议报到

无锡中央车站假日酒店·一楼酒店大堂

10:00-22:00会议报到(酒店大堂)

12:00-13:30

午餐

18:00-19:30

晚餐

19:30-21:00

圆桌论坛·高端抛光用耗材及设备的国产替代进程(四楼南长北新厅)

主持人:*   博士、教授、董事长   

上海工程技术大学宁波赢晟新材料有限公司

7月16日  技术交流会

无锡中央车站假日酒店·四楼梁溪厅

07:00-08:00

早餐

会议开幕  主持人   孙柯   中国电子材料行业协会粉体技术分会秘书长   粉体圈总经理

08:30-08:35

参会嘉宾介绍

技术交流  主持人倪自丰   江南大学   博士、副教授

时间

报告题目及报告人

08:35-09:00

纳米氧化铈及氧化铈抛光液的应用

孙韬 博士、教授、董事长

上海工程技术大学、宁波赢晟新材料有限公司

09:00-09:25

纳米金刚石微粉的制备及其应用

葛丙恒 博士、董事长 北京国瑞升科技集团股份有限公司

09:25-09:50

集成电路CMP专用超高纯二氧化硅磨料的制备及应用

何彦刚 博士、副研究员 河北工业大学

09:50-10:20         茶歇    参观展览

 技术交流  主持人:王永光   教授、博士生导师   苏州大学

10:20-10:45

柔性纳米磨粒的制备及应用

程洁 教授、博士生导师 中国矿业大学

10:45-11:10

高纯度硅溶胶的制备及其在半导体CMP中的应用

张泽芳 博士、副研究员、董事长 上海映智研磨材料有限公司

11:10-11:35

聚焦 0.01~1μm 异常颗粒:CPS实现半导体真实粒径全谱检测解决方案

党金贵 技术经理 儒亚科技(北京)有限公司

11:35-12:00

SiC等硬脆材料精密加工用金刚石磨轮技术进展与应用实践

陈德良 教授、博士生导师、首席科学家(兼)

东莞理工学院 东莞市中微力合半导体科技有限公司

12:10 - 14:00              参观展览

技术交流  主持人:孙柯   中国电子材料行业协会粉体技术分会秘书长   粉体圈总经理

14:00-14:25

纳米氧化铈材料高效与精准制备关键技术

张建斌   教授、博导   河北工业大学

14:25-14:50

高纯熔融石英元件超低缺陷表征、控制及去除工艺研究

顿爱欢   研究员   上海光学精密机械研究所

14:50-15:15

超精密纳米氧化铈抛光材料及在集成电路和光学方面的应用

赵朗   副研究员   中国科学院长春应用化学研究所

15:15-15:40

纳米库尔特粒度仪及其在抛光材料中的应用

麻小挺 博士、材料技术总监 瑞芯智造(深圳)科技有限公司

15:40 - 16:10          茶歇    参观展览

技术交流  主持人:何彦刚   博士、副研究员   河北工业大学

16:10-16:35

第三代半导体电复合抛光技术及装备产业化

王永光 教授、博士生导师 苏州大学

16:35-17:00

片状氧化铈对光学玻璃的抛光效果研究

梅燕 教授、正高级实验师 北京工业大学材料学院

17:00-17:25

研磨抛光材料粒度粒形检测方法及影响因素

宋文娟 销售经理 丹东百特仪器有限公司

17:25-17:50

稀土抛光材料的可控制备及其在化学机械抛光中的应用

李晓佩 高级工程师 包头稀土研究院

17:50-18:15

压电功能磨粒的制备及其化学机械抛光性能研究

倪自丰 博士、副教授 江南大学

18:40-20:30    答谢晚宴

友情提示:为保证良好会场秩序,请尽量不要在会议期间外出。在会议开始后,请把手机调到关闭或振动状态,谢谢您对我们工作的支持!

【参会费用】

会议注册费(含用餐、资料、会务等费用):2800元/人。6月26日之前,优惠价2500元/人。住宿统一安排,费用自理。

【赞助方案】

协办单位:50000元(含4人注册费),会议幕墙LOGO形象展示;会议胸牌宣传,产品展示桌一个张,展示板一个,产品资料装入会议袋,会议通讯录彩色广告。

赞助单位:20000元(含3人注册费),会议幕墙LOGO形象展示;产品展示桌一个张,展示板一个,产品资料装入会议袋,会议通讯录彩色广告。

支持单位:10000元每家(含2人注册费),产品展示桌一个张,展示板一个。

晚宴冠名赞助,会议礼品赞助,茶歇赞助,指示牌赞助请与主办方联系。


现场展位示意图

【联系方式】(大会组委会)

粉体圈(珠海铭鼎科技有限公司)

电话:0756-8633590 传真:0756-8633591

李幸萍 手机:13168670536(微信同号)QQ:3060562588

张祖玲 手机:18666974612(微信同号)QQ:2836457463

点击报名:2026年精密研磨抛光材料及加工技术发展论坛(第四届)

作者:粉体圈

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