随着半导体集成电路、高端器械、航空航天等产业的快速迭代,关键精密部件对表面粗糙度的要求已提升至亚纳米乃至原子级。作为决定器件性能与可靠性的核心后道工艺,精密研磨抛光正经历从材料体系到工艺路线的系统性升级。
一方面,加工对象不断复杂化:从硅拓展至碳化硅、氮化镓等宽禁带半导体,从陶瓷、玻璃基板到钛合金结构件,并逐步走向多材料共存的复合抛光场景;另一方面,抛光磨料的评价标准也从去除效率转向稳定性、洁净度与工艺可控性。粒径分布、异常大颗粒、金属杂质水平的控制及批次一致性,已成为抛光材料研发与应用中的核心挑战。
在此背景下,国产抛光材料正处于关键突破期。在碳化硅、部分半导体衬底及光学抛光领域,国产产品已达到或接近国际一流水平;但在IC前道CMP、高端掩模版抛光等应用中,仍面临验证周期长、工艺窗口窄、系统协同要求高等现实门槛。当前竞争,已由单一材料比拼,转向材料、工艺、装备与检测能力协同的系统竞争。
为促进研磨抛光领域新材料、新技术的交流与落地,粉体圈将于2026年7月15–16日在江苏·无锡举办“2026年全国精密研磨抛光材料及加工技术发展论坛(第四届)”。会议将汇聚上下游企业研发负责人、科研院所专家及产业投资机构,围绕磨料制备、工艺创新、抛光装备与产业应用展开深入研讨,助力中国精密制造持续向高端迈进。
【会议时间、地点】
7月15-16日 江苏 · 无锡
【主办单位】
粉体圈(珠海铭鼎科技有限公司)
【赞助单位】
丹东百特仪器有限公司
深圳市叁星飞荣机械有限公司
上海儒佳机电科技有限公司
珠海真理光学仪器有限公司
东贵精密机械(无锡)有限公司
【支持单位】
安拓思纳米技术(苏州)有限公司
北京精微高博仪器有限公司
【参会对象】
1、氧化铝、二氧化硅、稀土、氧化锆、超硬抛光材料等粉体生产企业技术负责人;
2、研磨抛光材料产业科研机构及高校相关课题组;
3、抛光液、抛光垫、抛光膏等下游产品研发、生产、应用企业负责人;
4、粉碎、分级、颗粒检测设备企业负责人;
5、磨料磨具、研磨抛光设备企业负责人;
6、抛光产品的下游应用单位。
【会议日程】
7月15日 10:00-22:00 会议报到
7月16日 08:30-18:00 技术交流
18:00-20:00 招待晚宴
【会议议题】
1、研磨/抛光磨料的制备与应用:氧化铈、二氧化硅、氧化铝、金刚石等。
2、CMP抛光液的制备与应用:抛光液的配方调控与洁净度控制
3、关键抛光工具:抛光垫、钻石碟的结构设计、制备技术及应用。
4、多材料共存复合抛光场景:异质集成架构下的选择性抛光与技术难点
5、国产CMP抛光设备:关键技术瓶颈与“卡脖子”问题解析
6、国产高端抛光液攻坚:IC、高端掩模版等应用中抛光液的国产化进展
7、堆积磨料与复合磨料:堆积磨料的自锐性机理控制与高性能复合磨料的研发
8、新型抛光技术:磁流变、磨粒流、离子束等在超精密加工中的产业化进展
9、表征与监测技术:异常大颗粒的检测、粒径分布一致性控制及生产过程中的在线监测
10、晶圆材料加工:硅、碳化硅、氮化镓等晶圆材料的切磨抛全工艺链。
11、批次一致性管理:从实验室研发到工业化大规模量产的稳定性保障
12、硬脆材料:蓝宝石、光学元件、先进陶瓷的精密加工技术
13、金属与涂层:钛合金、不锈钢结构件及汽车功能涂层的镜面光整工艺
14、复杂及异形件:针对航空航天、生物医疗等领域复杂型面的抛光解决方案
【为什么要参会?】
1、促进行业技术交流,学习同行先进经验,积累新的人脉资源;
2、结识先进设备供应商,把握行业技术发展方向;
3、面对面交流,构建良性产业链经济生态圈,寻找合作商机。
【往届会议精彩掠影】


【参会费用】
会议注册费(含用餐、资料、会务等费用):2800元/人。6月26日之前,优惠价2500元/人。住宿统一安排,费用自理。
收款账户:
单位名称:珠海铭鼎科技有限公司
开 户 行:建设银行珠海兰埔支行
账 号:4400 1646 3380 5300 3727
【赞助方案】
协办单位:35000元(含4人注册费),会议幕墙LOGO形象展示;会议胸牌宣传,产品展示桌一个张,展示板一个,产品资料装入会议袋,会议通讯录彩色广告。
赞助单位:20000元(含3人注册费),会议幕墙LOGO形象展示;产品展示桌一个张,展示板一个,产品资料装入会议袋,会议通讯录彩色广告。
支持单位:10000元每家(含2人注册费),产品展示桌一个张,展示板一个。
晚宴冠名赞助,会议礼品赞助,茶歇赞助,指示牌赞助请与主办方联系。
【联系方式】(大会组委会)
粉体圈(珠海铭鼎科技有限公司)
电话:0756-8633590 传真:0756-8633591
李幸萍 手机:13168670536(微信同号)
李燕 手机:13377562702(微信同号)
报名:https://powder360.mike-x.com/07eh6
无锡精密研磨抛光论坛会务组