在近期的半导体市场中，一种关键材料——磷化铟（InP）的需求正在经历一场爆发，甚至美国晶圆制造商AXT公司近日还因磷化铟产品需求激增而股价暴涨，其股价在3个交易日内飙升了140%，引发了业界的广泛关注。而这一现象背后的驱动力正是人工智能（AI）技术的迅猛发展。

磷化铟衬底

磷化铟，作为一种在高频、高速电子器件中扮演着关键角色的第二代半导体材料，其需求激增的背后，不仅揭示了AI技术对半导体材料市场的深远影响，也凸显了该材料在未来科技中的重要性。接下来就来了解一下，磷化铟是如何在AI技术的推动下快速成长的吧。

一、磷化铟是何物？

磷化铟是一种重要的化合物半导体材料，因其具备宽禁带结构，具有极高的电子极限漂移速度，用这种材料制作的电子器件能够放大更高频率或更短波长的信号，且受外界影响较小，稳定性较高。目前，在光通信领域，磷化铟衬底可用于制备激光器芯片、接收器芯片、电光调制器等，对应的终端领域包括5G通信、数据中心、人工智能、无人驾驶、可穿戴设备等领域。

磷化铟在电信、 数据通讯、 消费感知等领域的应用

二、磷化铟的商业化进程

磷化铟最早由A.Thiel于1910年人工合成，但直到1958年，梯度凝固法、区域熔炼法、水平布里奇曼法的采用才相继长出小尺寸磷化铟单晶｡直到1968年，Mullin等人采用高压液封直拉法(LEC)，首次成功的拉制出大尺寸磷化铟单晶材料｡1986年，美国贝尔实验室的E.M.Monberg等人也首次将垂直梯度冷凝法(VGF)技术应用于InP半导体单晶材料的生长｡

直到进入1990年代，InP单晶材料的规模化商业生产才逐渐开始｡由于技术门槛高、生产难度大，全球磷化铟市场集中度极高，大尺寸磷化铟发展较快的主要是美国AXT和日本Sumitomo，均能实现6英寸的磷化铟衬底生长｡6英寸的磷化铟衬底预计2026~2027年能大批量进入商业化应用｡

磷化铟的主要厂商所占市场份额

三、AI发展与磷化铟需求爆发的关系

最初，磷化铟应用是从LED 低端产品开始，接着慢慢向微显示、大功率激光器发展，最后正是受到万众瞩目的人工智能（AI）领域。磷化铟之所以可以在AI领域受到重视，是因为AI对数据传输有着很大的需求，其应用依赖于带宽增加、低衰减和低失真的海量数据传输，因此直接推动了对高性能半导体材料的需求。

在这一趋势下，磷化铟作为一种在快速数据传输中表现出色的半导体材料，其市场需求显著上升。磷化铟因其卓越的高频性能和低损耗特性，被认为是支持高效数据传输的最佳平台。云南锗业在投资者互动平台上指出，磷化铟衬底在光芯片生产过程中属于关键材料之一。随着AI技术对光通信和高频电子器件的需求增加，磷化铟作为核心材料的地位愈发重要。由此可见，AI的快速发展不仅推动了磷化铟需求的爆发，也使其成为人工智能时代最紧俏的半导体原材料之一。

四、总结

总之，磷化铟作为一种先进的半导体材料，正因人工智能（AI）的迅猛发展而迎来需求的急剧增长。尽管其应用仍面临不少挑战，但随着AI技术的不断进步，磷化铟的市场前景变得愈加光明。未来，磷化铟极有可能在新兴科技领域继续发挥关键作用，进一步体现出材料对科技进步的重大影响。

资料来源：

韩家贤,韦华,刘建良,等.GaAs和InP化合物半导体的发展趋势及应用[J].云南化工,2023,50(12):16-20.

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