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化学机械抛光（CMP）目前被广泛应用于光学元件、计算机硬盘、微机电系统、集成电路等领域，而在CMP过程中，抛光垫起到了储存抛光液、输送抛光液、排出废物、传递加工载荷、保证抛光过程平稳进行等作用，其成本占CMP...
齿科陶瓷材料是指用于修补缺损牙齿或替代缺损、缺失的牙列，使其恢复解剖形态、功能和外观的各种材料，具有良好的生物相容性、在口腔环境中的化学稳定性，以及与自然牙相似的热导率和自然牙釉相似的磨损率，并具有美...
机械制造业是工业乃至国民经济的基础，而清洗技术又与机械制造生产活动息息相关，随着航空航天、汽车船舶等领域的快速发展，业界也对工件表面抛光清洗质量提出了更加严格的要求。在机械加工领域中精密光整加工方法很...
化学机械抛光(ChemicalMechanicalPolishing,CMP)，被认为是目前最好的实现全局平面化的工艺技术，它借助超微粒子的切削作用以及材料的化学腐蚀作用可以将材料表面抛光至光洁平坦，其开发历史甚至可以追溯到第一次世...
气力输送，也称气流输送，是利用气流的力量造密闭管道内沿气流方向输送颗粒状、粉体状物料的一种技术。由于气力输送以密封式输送管道代替传统的机械输送物料，具有灵活性好、易损件较少，维护成本低、占地小、无粉尘...
在轿车和高端商用车的涂装工艺中，都会对最终的面漆进行抛光处理，其目的是消除涂层表面的颗粒、纤维等缺陷。随着汽车工业技术以及喷涂技术的不断进步，顾客对汽车涂料的质感要求越来越高，汽车涂料已不仅只是起到防...
CMP又称化学机械抛光技术，是使用化学腐蚀及机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平坦化处理。其设备包括抛光、清洗、传送三大模块，其作业过程中，抛光头将晶圆待抛光面压抵在粗糙的抛光垫上，借助抛光液...
锂离子电池的研究始终围绕着电极材料的高能量密度和长循环寿命，以高镍三元正极、硅基负极等为首的锂电材料在表现出更高锂存储容量的同时，也面临巨大的应用难题：首次充放电过程中，电解液发生分解，导致锂离子不可...
化学机械抛光（ChemicalMechanicalPolishing，CMP）技术是超大规模集成电路制造工艺中的关键技术之一，能实现集成电路（IC）制造中晶圆表面全局平坦化，使其达到原子级超高平整度。CMP工序中，抛光液是影响抛光效果...
锂离子电池的制造工艺复杂，工序众多，按照流程来说一般分为三大工段，一是极片制作，二是电芯制作，三是电池组装。其中极片制作是整个锂电池生产流程的基础，它包括了合浆（搅拌）、涂布、辊压、分切、制片、模切等...
万里行|密友粉体装备制造：四十不惑，洞悉技术创新与产品升级核心价值！
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2023/08/16