二氧化硅具有优异的光透过性、绝缘性、抗磨性、较宽的禁带宽度以及化学惰性等性能，作为真空镀膜材料在光学、微电子等领域已经得到广泛应用，如光学系统中的增透减反膜、微电子器件上的介电层等。

蒸镀原理及镀膜机结构

目前在光学薄膜应用领域中，物理气相沉积（PVD）仍是主流技术，也就是蒸发镀膜和溅射镀膜技术。从工艺特性上看，要提高二氧化硅薄膜的品质，原材料也就是二氧化硅的纯度得足够高，羟基（OH）含量也要控制，同时镀膜时速率得平稳、减少放气量，减少喷溅点。

虽然地壳中储藏着大量的二氧化硅，占总质量的12%，但自然形成的4N以上的二氧化硅实在太少，因此大部分作为真空镀膜材料的二氧化硅是通过人工合成的，也就是熔融石英。熔融石英主要包括普通熔融石英和合成石英，不同制备方式获得的二氧化硅，其光学性能也有所不同，因此应用上也有所区别。比如说普通熔融石英的在可见光范围内透射率高，羟基OH含量较低，在光学薄膜中多用于增透膜（AR）中，如手机摄像头、手机面板数码相机等光学镜头。而合成石英的在2730nm波长处有较强的吸收峰，羟基OH含量高，在光学薄膜中多用于紫外膜系中，如各类截至滤光片。

有道是进步就是永不止步，随着科学技术的发展，如今二氧化硅在去除杂质、掺杂技术等方面都取得了突破，为各类光学薄膜的制备提供了更广的范围。如果您对此感兴趣，想了解二氧化硅在光学、微电子等领域中的应用到底发展到了哪一步的话，在7月09-11日于广东东莞举办的“2021年全国二氧化硅材料技术创新与高端应用交流会”上，来自盛唐光电科技有限公司的李洪亮董事长将带来题为《二氧化硅在光学薄膜领域中的应用》的报告，从熔融石英制备的方式以及镀膜工艺技术要求，和大家探讨二氧化硅在光学薄膜领域中的应用，这么好的机会，千万不要错过了噢！

报告人 李洪亮

徐州盛唐光电科技有限公司董事长

盛唐光电（宿迁）有限公司董事长

江苏沂兰新材料研究院副院长

江苏陇盛光电材料产业研究院副院长

深圳市光学光电子行业协会理事

粉体圈会务组