超精密研磨抛光是军工、半导体等高端制造制程的关键工艺，直接影响到产品的性能、可靠性与成本。通常不仅仅是平坦化不同的材料，更要平坦化多层材料，使得几毫米见方的硅片通过这种“全局平坦化”形成上万至百万晶体管组成的超大规模集成电路。抛光工艺也已随之进入纳米级的超精密程度，其应用领域包括集成电路制造、医疗器械、汽车配件、数码配件、精密模具以及航空航天等。

对于超精密抛光工艺来说，磨料的选择至关重要，而抛光磨具的重要性也不遑多让。抛光机的关键元器件是“磨盘”，超高精密抛光对抛光机中磨盘的材料组成和技术规定几近严苛，磨盘不但要考虑自动化技术实际操作的纳米精度，更要具有精准的线膨胀系数。

抛光磨盘

对于不同的应用领域，对超精密抛光的抛光效果和技术要求不同，例如：

（1）半导体制造：在半导体芯片制造过程中，超精密研磨抛光技术用于晶圆衬底的加工，需保证晶圆表面的高平整度，从而提高芯片的制造质量；

（2）光学镜片加工：在光学仪器、相机、望远镜等光学设备的制造中，超精密研磨抛光技术用于加工镜片表面，实现高精度的光学效果；

（3）陶瓷加工：在功能陶瓷、陶瓷刀具等陶瓷制品的加工过程中，超精密研磨抛光技术用于去除陶瓷表面的缺陷，提高表面光洁度；

（4）金属加工：在航空航天、汽车制造等领域，超精密研磨抛光技术用于加工金属零件表面，实现高精度的加工效果。

超精密研磨抛光磨具的产品类型多样，其制备工艺同样值得关注。在即将于2023年9月18-19日在东莞举办的“2023年全国精密研磨抛光材料及加工技术发展论坛”，将由来自郑州磨料磨具磨削研究所有限公司研磨抛光事业部部长的徐明艳分享报告“超精密研磨抛光磨具的制备及其在新领域中应用”。报告将重点介绍超精密研磨抛光磨具的产品类型、技术需求与难点及其在高端制造领域的应用，并对相关技术发展进行了展望。

详细报告内容：1）超精密研磨抛光磨具；2）超精密研磨抛光磨具制备技术；3）超精密研磨抛光磨具应用（Si、LED、SiC、GaN、Ga2O3、GaAs、InP、金属、陶瓷等，平面、非平面研磨抛光）；4）超精密研磨抛光技术展望。

报告人简介

徐明艳：郑州磨料磨具磨削研究所有限公司，研磨抛光事业部部长。本科和硕士均毕业于太原理工大学应用化学专业，主要从事流体磨具产品，如研磨液、抛光液、研磨膏、磨料流等产品的研发、生产与运营，曾在国家磨料磨具质量监督检验中心从事磨料、磨具的物理化学分析工作，在磨料选择、处理、品控与应用方面积累有一定的经验。

主持和参与多项省部级科研项目，获授权发明专利10余项。曾获河南省科学技术进步二等奖（2020）、郑州市重点产业急需紧缺人才等。

东莞抛光论坛会务组

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