原子层沉积（ALD）是一项能够实现原子级厚度精度控制的表面改性技术，近年来在材料工程领域受到越来越多的关注。凭借其优异的保形性、致密性和厚度可控特性，ALD 在精密制造行业已得到广泛应用。而在高曲率高比表的粉体材料领域，ALD 技术也逐渐展现其独特价值。

PALD 技术制备的薄膜更均匀（左：溶胶凝胶法；右：ALD）

在即将举行的“2025 全国粉体检测与表面修饰技术交流会（第九届）暨 CEMIA 粉体技术分会 2025 年年会”上，复纳科学仪器（上海）有限公司（简称：复纳科技）产品经理庄思濛将带来主题报告《原子层沉积技术在粉体工程中的应用》，从技术原理、工艺特点到实际案例，全方位呈现该技术在粉体工程中的最新进展。

ALD：粉体表面改性的新路径

粉体材料由于比表面积大、表面缺陷多，容易出现团聚、稳定性差、寿命短等问题，限制了其在许多高端领域的进一步应用。如何在颗粒表面构筑均匀、稳定且厚度可控的薄膜，是粉体工程长期面临的核心挑战。

ALD 的出现，为粉体材料提供了新的解决方案。其关键优势包括：

l 原子层级厚度控制：可使涂层厚度保持在0.1~100 nm的高精度范围；

l 膜层均匀：涂层具有共形、无针孔、均匀的特点；

多行业验证的典型应用方向

虽然ALD在粉体工业中的应用起步较晚，但在过去数年间，它已在多个材料领域完成商业化验证。以下是ALD 在多个行业中的应用案例：

1、锂电池材料的性能提升

在锂离子电池中，电极粉末在循环过程中容易发生界面副反应，导致容量衰减与安全性下降。

通过在粉体表面形成均匀薄膜，可以稳定材料表面结构、提高电池性能、减缓锂不可逆损耗、提升循环寿命和高电压适应性。

ALD 在 NMC 粉末表面包覆氧化物涂层

2、催化剂更稳定、寿命更长

催化剂粉末的活性组分常因烧结、浸出而导致性能退化。通过 ALD 进行表面修饰，可实现保护活性位点，避免催化剂的烧结与浸出、提高催化剂使用寿命与反应稳定性的作用。

3、金属与陶瓷粉体的可靠性提升

金属粉末与陶瓷粉末广泛应用于粉末冶金、电子浆料、增材制造等行业。通过构筑稳定的表面涂层，可以减少粉体的氧化与吸湿、改善储运过程中的稳定性、提烧结改善界⾯、减少夹杂物的作用。

工业化的关键挑战仍需攻关

虽然 ALD技术在粉体材料中的表现突出，但真正走向工业化仍需要解决以下瓶颈：1)如何实现大批量粉体的均匀沉积；2)将涂层成本降低到行业可接受水平；3)确保不同材料体系均能获得效果。

本次报告将介绍粉体原子层沉积技术的发展、实现方式、其在新能源领域的应用以及工业应用的挑战。如果各位对报告内容感兴趣，欢迎了解会议详情及报名。期待各位行业同仁莅临大会现场，与庄思濛经理及众多专家深入交流，共同探讨粉体工程发展的新方向。

关于报告人及复纳科技

庄思濛先生本硕毕业于北京科技大学新澳彩资料无机非金属材料专业，目前就职于复纳科学仪器（上海）有限公司，负责Forge Nano的原子层沉积设备技术中国市场的技术支持与应用推广工作

其公司复纳科技成立于 2012 年，致力于为工业、高校、科研机构及政府部门提供先进的分析测试仪器与智能材料工程装备。多年来持续引进全球领先的技术与设备，为客户提供可靠、高效的产品及技术解决方案，支持科研创新与材料产业升级。

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