在先进半导体制造过程中，CMP（化学机械抛光）被誉为实现晶圆全局平坦化的关键工艺，其加工质量直接影响后续沉积、光刻、刻蚀等环节的良率与性能。而随着先进制程不断向更小节点迈进，行业对于CMP浆料品质控制的要求也日益严苛。

长期以来，人们更多关注浆料的D50、D90、PDI等主体粒径指标，但在实际生产过程中，真正可能引发晶圆划伤、表面缺陷、良率下降等问题的，往往是数量极少却隐藏在粒径分布尾端的大颗粒、团聚体或异常污染颗粒。由于其丰度低、分布随机，传统检测手段往往难以准确识别和量化，这也使其成为CMP工艺质量控制中的重要挑战之一。

作为一家专注于高精度液体颗粒检测技术与仪器研发的科技型企业，上海光起科技有限公司长期围绕高浓度复杂液体样品中的颗粒检测难题开展技术创新。公司核心产品Acona系列液体颗粒计数与粒度分析仪，面向半导体、精密研磨抛光材料、制药及先进制造等领域，为客户提供高灵敏度、高重复性、易集成的液体颗粒检测解决方案。

重点展示产品

在即将于7月15-16日在江苏·无锡举办“2026年全国精密研磨抛光材料及加工技术发展论坛（第四届）”期间，光起科技将重点展示Acona 7000 APS全自动稀释颗粒计数仪、Acona 7000 AD多功能自动计数粒度仪以及Acona LE Mini在线液体颗粒计数器三款代表产品，构建覆盖实验室检测、工艺验证到在线监测的CMP浆料尾端大颗粒检测完整解决方案。

①Acona 7000 APS

Acona 7000 APS主要面向 CMP slurry、抛光液、研磨液等高浓度复杂液体样品的实验室离线检测，可用于 PSD 尾端大颗粒、团聚体、凝胶颗粒及异常颗粒的数量统计。仪器基于单颗粒光学检测技术，粒径检测范围覆盖0.5～400μm，支持最高 1024 个粒径通道，样品浓度限值可达10¹¹个/mL。适用于浆料来料检验、过滤前后对比、储存稳定性评价、异常批次排查及 CMP slurry LPC 方法建立。

②Acona 7000 AD

Acona 7000 AD则兼顾颗粒计数与粒度分析功能，适用于CMP浆料、抛光液、微球、混悬液等样品的研发测试和质量评价工作。设备同样具备0.5～400μm的宽粒径检测能力，支持最高 1024 个粒径通道，自动稀释模式下样品浓度限值可达 10⁹ 个/mL。适用于研发测试、批间一致性评价、过滤方案比较及常规质量控制。

③Acona LE Mini在线液体颗粒计数器

除了实验室检测需求外，随着先进制造行业对过程质量控制要求不断提高，在线监测正逐渐成为行业关注的重要方向。针对这一需求，光起科技推出了Acona LE Mini在线液体颗粒计数器。该仪器粒径检测范围覆盖0.5～400μm，支持最高 1024 个粒径通道，样品浓度限值可达10¹¹个/mL。适用于过滤器状态评估、输送管路洁净度监控、工艺端颗粒风险控制及连续过程质量监测。

结语

随着先进制程持续演进，CMP浆料质量控制正从传统粒径分布分析逐步走向颗粒风险管理。如何及时发现尾端异常颗粒、建立有效预警机制，并实现全过程质量追溯，正成为材料企业与终端用户共同关注的重要课题。

作为国内液体颗粒检测领域的重要参与者，光起科技持续推进LPC检测与在线监测技术创新，致力于为CMP浆料及先进制造领域提供更完善的颗粒风险控制解决方案。7月15-16日，在“2026年全国精密研磨抛光材料及加工技术发展论坛（第四届）”现场，光起科技也将携相关产品与应用案例亮相（展位号：13），与行业同仁共同探讨CMP浆料颗粒检测及过程质量控制的发展方向。

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