6月16日，森村集团旗下Noritake（诺里塔克）公司宣布，成功开发出一款可在玻璃基板研磨工艺中仅使用纯净水进行研磨的新型研磨垫“AQUCERIA”——这种研磨垫将氧化铈（CeO₂）磨料内置，大幅减少使用量，尤其为先进半导体封装等领域的玻璃加工提供了一种更具可持续性的解决方案。

新型研磨垫外观

玻璃基板的研磨（平坦化）是制造高精度电子元件（如半导体封装基板、图像传感器、硬盘玻璃基板等）的关键工序。传统工艺中，操作者需在硬质聚氨酯等材质的研磨垫上持续流动含有氧化铈颗粒的研磨剂浆料（Slurry），通过机械与化学协同作用实现玻璃表面的平坦化。传统工艺存在的痛点包括：稀土氧化铈资源消耗大；使用后的废弃研磨剂处理成本高，环境负担大；玻璃基板清洗工序繁琐；另外还有受浆料滞留因素导致的平坦化精度（均匀性）受限等。

传统工艺研磨浆料滞留示意图

氧化铈内置抛光垫的稳定供给可实现高精度研磨

新型“AQUCERIA”抛光垫利用Noritake独有的有机物-无机物复合技术，将作为无机物的氧化铈研磨剂内置于有机树脂材质的研磨垫中，加工时只需在垫面上流动纯水，水分子激活垫内氧化铈的研磨作用，无需额外添加研磨剂浆料——垫子内部设计了最适合玻璃研磨的孔隙尺寸，这些孔隙不仅高效排出研磨碎屑，还能在加工过程中将内包的氧化铈稳定地持续供应到垫子表面，确保仅用水研磨也能达到与传统浆料研磨同等的研磨速度和表面粗糙度。

小结

作为日本最大的综合性研磨工具制造商，Noritake是森村集团核心企业之一，在研磨加工领域，Noritake提供从砂轮、研磨布纸到研磨油等全系列产品，广泛应用于汽车、IT半导体、光学玻璃、轴承制造等行业。本息官宣的新型研磨垫和基于此的“仅需纯水”的极简工艺，直接带来氧化铈用量减少90%，工业废弃物削减达90%，基板表面清洗负担也大幅减轻，最大研磨尺寸达500mm，除了玻璃基板还可以用于图像传感器、硬盘驱动器玻璃基板及光学玻璃的研磨抛光。

粉体圈