在半导体制造与精密材料加工领域，CMP抛光液的稳定性直接关系到良率与成品率，其液相中微纳颗粒的识别与监测，是提升工艺水平的关键环节。

然而，CMP抛光液中的颗粒由于其悬浮状态与复杂组分，常规检测手段面临颗粒失真、前处理繁琐、识别精度不足等问题，特别是在纳米级别的分析中，更缺乏高效、准确、原位的检测技术。

为实现CMP抛光液中颗粒物的精准监控，保障化学机械抛光过程的稳定性与一致性，亟需具备原位观测、自动识别、高分析能力的先进检测系统。作为一家专注于先进检测技术的公司，卫利国际科贸（上海）有限公司为帮助用户实现更高效的品质保障与失效预防，构建起从厂房环境、UPW/纯气系统、设备机台、物料供应链，到晶圆表面的全流程检测体系，实现从微米到纳米颗粒尺寸、从Native Particles到Precursors的高精度测试，全面满足CMP抛光液品质控制与工艺优化的高标准需求。

如果您对相对议题感兴趣，欢迎参加将于7月24-25日在东莞喜来登大酒店举办的“2025年全国精密研磨抛光材料及加工技术发展论坛（第三届）”，来自卫利国际科贸(上海)有限公司的产品负责人周炜先生将带来主题为《液相颗粒原位观察与分析技术用于抛光液检测》的报告，分享前沿检测技术如何破解行业痛点。

报告人：周炜 产品负责人

报告亮点有：

（1）液态物质在SEM显微镜中，不再需要干燥预处理，可直接封装后观测原位液态中的颗粒物质样貌；

（2）全自动影像分析分析设备，用于检测/分析液体中物质形貌状况，并AI识别物质类别。

东莞抛光论坛会务组