溅射靶材+静电吸盘:江丰电子半导体技术与产业链双向加码韩国

发布时间 | 2025-04-17 19:54 分类 | 企业动态 点击量 | 194
氮化铝 氧化铝
导读:4月15日,宁波江丰电子材料股份有限公司(江丰电子)公告,将对境外孙公司韩国江丰(KFAM CO., LTD.)增加投资3.5亿元,即对韩国江丰的投资总额由不超过3.5亿元增加至不超过7亿元。

4月15日,宁波江丰电子材料股份有限公司(江丰电子)公告,将对境外孙公司韩国江丰(KFAM CO., LTD.)增加投资3.5亿元,即对韩国江丰的投资总额由不超过3.5亿元增加至不超过7亿元。这被视为强化与韩国半导体产业链的深度合作,拓展超高纯金属溅射靶材业务的全球份额。不止如此,年初江丰电子与韩国KSTE INC.签署框架协议,计划引进静电吸盘生产技术及产线,横向拓展半导体精密零部件业务。


1月17日,江丰电子与韩国KSTE INC.签署静电吸盘项目合作框架协议

静电吸盘是半导体设备核心零部件,采用高纯度陶瓷(如氧化铝氮化铝)作为基材,要求材料具备优异的电绝缘性、耐高温性(承受等离子体刻蚀等严苛环境)以及与晶圆热膨胀系数的高度匹配。其需要通过流延、丝网印刷、叠片、热压和共烧等工序,将电极层与陶瓷基体一体化成型,涉及多层陶瓷共烧技术,另外电极层的气体通道、温控系统集成等进一步增加了工艺复杂度。可以说从陶瓷粉体、电极浆料等原材料,再到成型烧结和后期精密加工等,存在严苛标准、设备工艺以及后期验证等全链条技术壁垒。

江丰电子通过引进KSTE技术,有望打破海外垄断,提升国内半导体设备供应链安全性;KSTE通过技术授权进入中国市场,可借助江丰的本土资源扩大份额,国内半导体自主化完善过程中,产业链空缺环节正在迅速补齐。

 

粉体圈 整理

作者:粉体圈

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