上个月末,为深入了解CMP抛光液制备相关的先进设备,粉体圈来到了苏州生物医药产业园区——一个乍看之下与芯片抛光液等应用方向毫无关联的地方,实地拜访了安拓思纳米技术(苏州)有限公司(以下简称“安拓思ATS”)。
粉体圈与安拓思-高友鑫经理
事实上,安拓思确实是一家在生物医药领域积累了深厚技术基础的设备企业,其拳头产品“高压均质机”在脂质体药物、生物发酵、酶制剂、蛋白提取和纳米纤维素等领域已有悠久的应用历史。然而,随着市场需求的变化,安拓思近年来逐步将触角延伸至新能源材料、MLCC陶瓷浆料和芯片抛光液等多个高科技领域,成功实现了一次令人瞩目的技术跨越。接下来,就让我们一起走近安拓思,了解其技术与优势。
什么是“高压均质机”?
高压均质机是一种广泛应用于生物医药、化工、新材料等领域的设备,主要用于将物料进行纳米级分散、均质和乳化处理。通过高压状态下的多重作用力,它能够有效地打破颗粒团聚,均匀分散物料,提升产品性能,是许多高精尖领域不可或缺的关键设备。
三种规格的高压均质机
高压均质机的工作流程是:物料在柱塞的往复运动作用下被输送至一个可调节大小的阀组,在高压下受到强烈压缩,随后通过限流狭缝时,以极高的速度撞击在均质阀上,产生空穴效应、撞击效应和剪切效应。这些作用力共同作用下,使物料团聚体被有效打破,均匀分散。
在会谈中,安拓思团队详细介绍了均质机内的核心技术原理,包括空穴效应、剪切效应和撞击效应:
l 空穴效应:类似爆米花的原理,高压环境下液体内产生微小气泡,这些气泡快速破裂形成强烈冲击力,将物料颗粒击碎。
l 剪切效应:高速流动的液体在均质点产生强大的剪切力,促使颗粒之间或颗粒与设备壁面之间发生相互剪切。加装湍流阀可进一步提升流速,增强剪切力。
l 撞击效应:高压推动下的液体物料以极高的速度撞击到均质阀或壁面上,颗粒受力进一步破碎分散。
设备原理图
通过这些技术的共同作用,高压均质机能够高效实现纳米级物料的均匀分散,也难怪它可以提高CMP抛光液的性能和稳定性,从下方视频中也可以直观看到物料分散前后的效果对比。
关键部件与设计优势
安拓思深耕高压纳米分散机技术已有20年,技术源自国外,并在长期实践中积累了丰富的应用经验,针对不同使用场景开发出多种高性能核心部件,显著提升了设备的耐用性和稳定性,如以下两种核心耗材。
①高压分散阀门
ATS采用金刚石射流分散阀,与传统的合金或陶瓷阀相比,分散阀的寿命提升50%,有效降低了更换频率和维护成本。
②柱塞密封
ATS开发的新一代柱塞密封设计,强化了外径密封强度和柱塞耐磨性,同时优化了柱塞导向性能,其寿命是普通密封件的2-5倍,显著提高了设备的运行稳定性。
此外,安拓思设备还采用了多种高端配置,如: 设备使用进口电机、减速器和变频器等关键部件,提供强劲动力和精准控制;针对某些物料在生产过程中的堵塞问题,配备了带剪切功能的罐体预处理装置;设备配备全自动调压系统和高精度压力传感器,实时监控和调节工作状态。除此之外,也可以根据客户需求,选装冷却系统、机械式安全阀等配件,以适应不同应用场景的工艺要求。
ATS高压均质机动力端组成
通过在关键部件和智能化设计上的不断提升,安拓思的高压纳米分散机在性能和操作性方面均达到了行业领先水平,成为多个领域的重要技术支撑。尤其值得一提的是,安拓思的高压均质机能更有效避免软团聚现象。在实际应用中,某客户将安拓思的均质机与砂磨机结合使用,最终产出的颗粒直径稳定在约100nm,充分展现了设备卓越的分散效果。
结语
通过此次探厂,粉体圈团队不仅深刻感受到安拓思在高压均质分散领域的深厚技术积累,也看到了其对新材料领域未来发展的敏锐洞察。无论是新能源材料、芯片抛光,还是化妆品和生物制药,安拓思的高压均质设备都展现了卓越的应用潜力和技术优势。
粉体圈期待未来能与安拓思继续保持密切联系,共同推动行业技术的进步与应用的创新。欢迎对安拓思设备感兴趣的朋友联系粉体圈客服,我们将协助您与安拓思对接,共同为新材料领域贡献更多优质产品。
粉体圈