CMP抛光液中通常含有纳米级的磨料颗粒和多种添加剂，这些颗粒需要均匀分布以确保抛光过程的均匀性和效率，高压均质机则在其中扮演至关重要的角色——它通过高压下的强烈剪切和撞击作用，将颗粒分散到纳米级别，并保持其稳定的悬浮状态，从而改善抛光液的性能。

高压均质机与CMP抛光

芯片制造对于抛光不均匀或划伤晶圆表面是最不能容忍和接受的。目前的晶圆抛光普遍采用CMP抛光技术，抛光液作为该工艺的核心关键耗材，技术壁垒高，国产化率较低，其中一个重要原因就是纳米磨粒均匀分散难度高。高压均质机几乎是目前唯一得到行业成熟应用的纳米分散设备。高压均质机是近年来迅速发展起来的一类均质机，以其原理和结构带来的优势成为CMP抛光液提升性能的重要助力。

ATS高压均质机原理示意图

高压均质机原理及优势

以安拓思纳米技术（苏州）有限公司（以下称，安拓思）高压均质机为例简单介绍其工作原理——通过往复运动的柱塞泵将样品挤入一个狭小的缝隙，在缝隙中受到一个非常高的压力挤压，而当样品通过缝隙之后只承受很低的压力（一般为1bar），所以瞬间失压的样品会产生一个很大的爆破力；瞬间失压的样品会有非常快的速度喷射出来（200~1000m/s），也会产出很强的撞击力；样品在高速喷射的过程中样品颗粒之间也会产生一定的剪切力；所以综合来说通过爆破力，撞击力和剪切力就能达到非常好均质效果，能够使团聚的物料均匀分散。

l 金属杂质可控，无污染风险

l 耐腐蚀配件，提高使用年限

l 产品均一度高，分散均匀

l 四重安全设置，降低风险

l 对比微射流均质机，容腔不易堵塞，性价比更高

应用案例及分析

ATS均质机分散后的二氧化硅抛光液粒径对比

通过上述结果，可以看出使用高压均质机不仅可以提高CMP抛光浆料的性能和质量，还降低了生产成本，提高了生产效率，对于CMP工艺的优化和提升具有重要意义。而且不难看出高压均质机不仅在CMP抛光浆料中有显著优势，还可以应用于其他纳米材料的分散和均质过程，具有广泛的应用前景和市场潜力。

关于安拓思

安拓思纳米技术（苏州）有限公司成立于2001年，隶属于上海多宁集团，是一家专业从事精细化工、新能源材料等纳米制备设备与工艺辅助，集技术研发、生产、销售于一体的苏州高新技术企业。安拓思建有先进标准化车间及复杂制剂纳米化设备研究中心，主营的高压均质机、微射流均质机等设备通过NOV机构的ISO9001体系认证和UDEM的CE认证，致力于成为纳米均质服务领域的专家，提供从实验型到大型生产不同阶段需求的设备及技术解决方案。

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无锡抛光论坛会务组