Element Six宣布领军美国金刚石半导体产业化项目

发布时间 | 2024-09-11 09:18 分类 | 行业要闻 点击量 | 621
金刚石 氮化铝
导读:最近,戴比尔斯集团旗下,以开发化学气相沉积(CVD)金刚石技术和器件闻名的合成金刚石材料公司Element Six(元素六)宣布,公司将领导一个新的国防高级研究计划局(DARPA)项目:UWBGS(超宽禁带...

最近,戴比尔斯集团旗下,以开发化学气相沉积(CVD)金刚石技术和器件闻名的合成金刚石材料公司Element Six(元素六)宣布,公司将领导一个新的国防高级研究计划局(DARPA)项目:UWBGS(超宽禁带半导体)——元素六及其合作伙伴将开发4英寸单晶金刚石材料,比目前常规可用的材料大10倍以上,以加速关键的电子技术。


超宽带隙是指带隙能量明显高于硅(Si)或砷化镓(GaAs)等传统半导体,这类材料尤其适合于高功率、高频和高温应用,除了金刚石也包括氧化镓、氮化铝、氮化镓等等。其中,金刚石带隙(5.5eV)具有化学和辐射惰性、高载流子迁移率、热传导和宽电子带隙等特性,高温和高压性能尤其出色,因此具有提高半导体器件(如基板、薄膜、界面材料等)性能的潜力,可以减小整体尺寸、重量和功耗(SWaP)。但是它的产业化长期受困于制造挑战和高成本的限制。

Element Six对UWBGS计划的贡献将利用其在大面积CVD聚晶金刚石和高质量单晶(SC)金刚石合成方面的专业知识来实现4英寸设备级SC金刚石基板。该公司与高功率半导体公司ABB合作,制造出了首款高压块状金刚石肖特基二极管;此外,最近还利用其位于美国俄勒冈州波特兰的核心技术,完成了先进CVD设施的建设和调试,该设施由可再生能源提供动力。Element Six首席技术专家Daniel Twitchen教授表示:“自20世纪50年代首次实现规模合成以来,工业金刚石已经颠覆了多个市场,我相信UWBGS的技术突破将有助于开启半导体行业未来70年的机遇。”

对于UWBGS项目,Element Six已与全球其他该领域的领导者合作,包括日本的Orbray(拥有大面积金刚石专业知识)、雷神公司(GaNRF设备的领导者)、法国的HiquteDiamond(拥有位错工程专业知识)以及美国的斯坦福大学和普林斯顿大学(拥有材料块体和表面处理特性专业知识)。通过这一全球网络的合作,UWBGS有望突破金刚石创新的界限,实现新一代超宽带隙半导体。

 

编译整理 YUXI

作者:粉体圈

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