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一、蚀刻核心原理硝酸鈰铵(NH4)2Ce(NO3)6依靠Ce4强氧化性(E=1.61V)，酸性条件下氧化金属，Ce+被还原为Ce3+，金属变成可溶性离子溶1)铬蚀刻(光掩膜最主流)3Ce4++C...
硝酸铈铵是二元铬基光掩模版（BinaryChromeMask）湿法铬蚀刻的经典标准化学品，主要完成石英基板上Cr遮光层图形化，也用于掩膜返工、残铬去除.一、量产工业案例...
1.光掩模版（铬版）蚀刻对象：石英基板上金属Cr遮光层，半导体光刻掩膜版、TFT‑LCD光罩原理：\(\ce{Cr+3Ce^{4+}=Cr^{3+}+3Ce^{3+}}\)优势：只蚀铬，不腐蚀石英、...
无水氯化镧无水氯化镧详细介绍基本信息无水氯化镧（Lanthanum(III)chlorideanhydrous），CAS号为10099-588，是一种白色粉末状物质，易吸湿，易溶于水。其分子式...
无水氯化铈无水氯化铈详细介绍基本信息无水氯化铈（CAS号：7790-86-5），化学式为CeCl₃，是一种无色或淡黄色的粉末。它易溶于水、丙酮和酸，具有潮解性。无水氯...
氯化钇基本信息氯化钇，化学名称为Yttrium(III)chloridehexahydrate，CAS号为10361-92-9，分子式为YCl3·6H2O，分子量为303.36。它是一种白色或微黄色的固体，具...
氧化镝也用作制取金属镝的原料、玻璃、钕铁硼永磁体的添加剂，还用于金属卤素灯、磁光记忆材料、钇铁或钇铝石榴石、原子能工业中。分子式：Dy2O3分子量：373.0CA...
氧化铽（terbium(III)oxide）是一种氧化物，化学式Tb2O3，呈黑褐色粉末状。用于制作金属铽、磁光玻璃、荧光粉、磁光贮存、化工添加剂等。分子式：Tb4O7分子量：7...
氧化镓氧化镓是什么用作高纯分析试剂、用于电子工业半导体材料制备。用作高纯分析试剂、半导体材料。氧化镓，别名三氧化二镓，氧化镓(Ga2O3)是一种宽禁带半导体...
用于荧光粉、光学玻璃添加剂及电子工业；主要用于制造计算机的磁泡材料，使磁泡贮存器具有高速度、大容量、小体积、多功能等特点；用于制造特殊合金、介电陶瓷和...
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