推动本土化,韩国宣布成功开发8英寸SiC生长炉
2022年06月21日 发布
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日前,韩国半导体设备厂商ESTech宣布,与韩国唯一的碳化硅晶圆生产商Senic合作,成功开发出8英寸SiC晶锭生长炉,这意味着韩国实现碳化硅晶圆本土化又进了一步。 Senic的前身是SKC集团的碳化硅子公司,2021年被私募基金收购成立,致力于开发电动汽车用SiC晶圆。SiC晶圆的生产技术门槛高,目前主要由Gree、罗姆(Rohm)、II-VI等垄断,韩国SiC晶圆也是以海外进口为主,Senic的成立对于韩国SiC晶圆产业的本土化有着重要意义。Senic认为,虽然起步较晚,Senic与其他先进国家业者竞争仍有机会。 而Senic计划将通过IPO筹集的大部分资金用于加强6英寸碳化硅晶圆技术的竞争力和扩建设施,目标是在2023年底前完成包括现代汽车公司在内的主要客户的产品认证。Senic表示,为了满足客户的需求并应对不断成长的SiC晶圆市场,Senic在投入6寸晶圆量产的同时,也将推动8寸晶圆的研发。 此次合作开发成功,Senic决定采用ESTech设备量产单晶SiC晶圆,目前正在测试原型。ESTech预计今年下半年将向Senic供应用于SiC锭的化学气相传输(PVT)生长炉。 编译 YUXI 本文为粉体圈原创作品,未经许可,不得转载,也不得歪曲、篡改或复制本文内容,否则本公司将依法追究法律责任。 ![]() 相关标签:
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