在刚刚落幕的中国国际电池展览会（CIBF）展会上，叁星飞荣正式发布了新型双动力立式砂磨机。这台设备的推出，直接瞄准了当前固态电池和高端电子材料等领域最棘手的研磨难题。

CIBF上叁星飞荣推出的“新型双动力立式砂磨机”

比如说，以下几类高端材料的制备就对粉体粒径与粒度分布有着极严苛的要求，需使用0.1mm以下超细磨珠进行纳米级研磨：

1、固态电解质：较小且均匀的粒径有助于烧结致密化，构建连续离子传导网络，并改善界面接触；窄粒径分布可提升膜层均匀性与电池一致性。

2、硅碳负极：纳米硅颗粒的粒径均一性直接影响负极循环稳定性与首效，粒度分布过宽易导致膨胀不均和结构粉化。

3、CMP抛光液：磨粒的粒径均一性决定抛光表面平整度与划伤率，对粒度分布和颗粒细度均有严格要求。

4、数码喷墨墨水：颜料颗粒须达纳米级，以保障喷嘴畅通、色彩饱和度及打印层均匀性。

5、MLCC介质材料：超细、均匀的粉体是实现高层数、小型化积层陶瓷电容器的基础。

叁星飞荣新推出的这款新型双动力立式砂磨机，研磨极限粒度D50可达15-20nm，可全面满足上述高端材料领域的超细研磨需求。

研磨与分离：双动力独立驱动

要实现纳米级研磨，必须使用0.1mm以下的超细研磨珠。但超细磨珠带来的最大难题是分离难——若依赖筛网拦截磨珠，筛网极易堵塞，清理维护耗时耗力，磨珠一旦混入产品还会造成污染。

叁星飞荣为此采用了双动力独立驱动的核心设计。研磨机构与分离机构分别由独立电机驱动，互不干扰。研磨转子的速度根据工艺要求独立调节，分离涡轮的速度可根据磨珠大小单独设定，让两套机构各自运行在最优状态。不管是0.05mm、0.03mm，甚至是0.01mm的超细磨珠，都可以被有效分离。

SD系列双动力立式砂磨机

双动力独立驱动还带来另一项重要优势：在使用0.1mm以下极小磨珠的前提下，可采用较低的转子线速度进行分散研磨，在实现纳米级粉碎的同时，有效避免高速冲击对晶体结构的破坏，尤其适合对晶形有保护要求的敏感材料体系。

与此同时，设备采用动态离心式料珠分离，保障设备运行稳定且连续。研磨过程中，细颗粒在达到粒径要求后便会及时排出磨腔，停留时间短，不会过磨；大颗粒则留在腔内很快被磨细。这一机制使得最终产品的粒径分布更窄，更好地满足固态电解质和MLCC等高端领域对窄粒径分布的核心要求。

气相密封：从源头降低运维成本

砂磨机长期运行，机械密封的磨损和更换是一项持续的维护负担。叁星飞荣引入气相密封技术，机械密封只与空气接触，与磨介和浆料完全隔离，从根本上消除了密封件被浆料侵蚀和磨介磨损的问题，密封寿命大幅延长，维修频率显著降低，设备可长期稳定运行。

其他主要技术特点

除以上三大核心优势外，新型双动力立式砂磨机还具备以下特点：磨腔及构件材质可定制，包括氧化锆、碳化硅、氮化硅、聚氨酯、合金钢等，针对不同浆料体系控制引入杂质的风险；主电机频率可调，灵活控制转子速度以适配不同工艺；可实现微米、亚微米、纳米级的全范围可控研磨；离心分级研磨机制使有效研磨比例大幅提升，整体研磨效率较传统砂磨机提升50%以上。

无论是纳米级固态电解质粉体的精细研磨，还是MLCC介质材料的高端加工，叁星飞荣新型双动力立式砂磨机都提供了一套兼顾极限粒度、分离可靠性与设备稳定性的完整解决方案。欢迎联系叁星飞荣技术团队，获取详细技术资料或定制研磨工艺方案。

粉体圈