湖北硅元新材料科技有限公司二期项目拟于今年试投产,届时制备CMP研磨料的电子级四甲氧基硅烷产量将达到3000吨/年。
二期项目规划产品
医用有机硅项目产品
近几年,美国对我国半导体领域的制裁手段日益频繁,许多国家跟随美国步伐,和美国建立芯片出口管制联盟。在美西方的封锁和制裁下,我国高端芯片领域正处于“卡脖子“状态,自主研发成为当下的出路。湖北硅元新材料科技有限公司作为深耕于有机硅领域的高新技术企业,为实现国产高端芯片自主、可控做出努力,集中精力研发用于制备CMP磨粒的原料——电子级四甲氧基硅烷。
四甲氧基硅烷,又称正硅酸甲酯(TMOS)是一种无色透明,具有特殊气味的有机化合物,其广泛应用于化工、半导体制造、粘合剂等领域。在半导体制造过程中,可以用于化学气相沉积和CMP工艺。
制备CMP中的二氧化硅磨粒流程图
四甲氧基硅烷作为制备CMP二氧化硅磨粒的原料,具有以下优势:
(1)高纯度:在CMP制程中,磨粒的纯度越高在抛光液中的分散性越好,有助于维持抛光液的稳定性,减少磨粒团聚现象的出现,同时,可以有效的提升磨粒抛光的速率,减少抛光过程中表面缺陷的出现,从而提升硅片的表面质量。对于特定材料可以实现选择性去除,减少对于其他材料的不必要磨损。四甲氧基硅烷作为一种高纯度的化学品,其制备出来的二氧化硅磨粒相较其他方法制备的纯度会更高一些,有助于CMP制程更好的实现。
(2)可控的颗粒形成:通过控制四甲氧基硅烷的水解和缩合反应,可以较为容易的实现对二氧化硅颗粒的形状、大小和分布的控制,从而满足不同CMP应用的要求。
(3)良好的表面改性能力:四甲氧基硅烷的硅氧键可以与多种有机官能团发生反应,由四甲氧基硅烷制备的二氧化硅磨粒更易于进行表面改性,以提高在浆料中的分散性和稳定性。
发展四甲氧基硅烷作为制备CMP二氧化硅磨粒的原料,对于推动半导体制造业的进步,提高生产效率和产品质量以及促进环保和可持续发展具有重要意义。
湖北硅元新材料科技有限公司将于8月25-26日参加在江苏无锡举办的“2024年全国精密研磨抛光材料及加工技术发展论坛“,如果有意向与湖北硅元新材料科技有限公司在抛光领域进行合作研发的朋友,欢迎到会与湖北硅元新材料科技有限公司面对面交谈!
关于湖北硅元新材料科技有限公司
湖北硅元新材料科技有限公司成立于2018年3月,是一家拥有自主研发中心和中试基地的硅材料高新技术企业。自2018年成立以来湖北硅元新材料科技有限公司长期深耕于硅氧烷领域,建立了以教授、博士牵头,硕士、本科为主要力量的多层级研发团队,力求用品质最好、最稳定的硅氧烷产品为客户提供定制化服务。是行业内最优秀的硅氧烷产品制造商之一。
专利及知识产权
湖北硅元新材料科技有限公司参与了包含甲基乙烯基二氯硅烷、四甲基二乙烯基二硅氧烷、甲基乙烯基硅氧烷混合环体、二甲基二乙烯基硅烷在内的行业标准制定,拥有实用新型专利授权16项,发明专利授权2项,有5项产品已取得欧盟REACH注册认证。
公司其他主营产品
1、二甲基二甲氧基硅烷 (CH3)2Si(CH3O)2
二甲基二甲氧基硅烷是一种无色透明液体,易挥发,溶于水。主要应用领域包括:(1)有机硅树脂的改性剂;(2)有机硅混炼胶的结构控制剂;(3)扩链剂;(4)填料处理剂
2、六甲基二硅氮烷 C6H19NSi2
六甲基二硅氮烷是一种无色透明,有轻微氨味的液体。主要应用领域包括:(1)表面功能化改性剂;(2)有机合成中间体;(3)化学品保护剂;(4)表面处理剂
3、甲基乙烯基二甲氧基硅烷 C5H12O2Si
甲基乙烯基二甲氧基硅烷是一种无色透明,具有轻微酯香味的化合物。它可作为有机硅化合物的中间体以合成多种类型的有机硅化合物,如通过共缩聚反应生成含乙烯基的聚二甲基硅氧烷,这些聚合物具有可调节的功能性甲基乙烯基硅氧烷单元,分子量范围在1500至20,000之间,并且微观结构分析显示共聚主要形成具有随机分布的单元;它也可以作为表面处理剂用于改善材料的润湿性能和附着力。
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