GB/T 42902-2023 碳化硅外延片表面缺陷的测试 激光散射法

发布时间 | 2024-01-10 11:15 分类 | 行业标准 点击量 | 934
碳化硅
导读:本文件描述了激光散射法测试碳化硅外延片表面缺陷的方法。 本文件适用于4H-SiC外延片的表面缺陷测试。

标准编号:GB/T 42902-2023

标准名称:碳化硅外延片表面缺陷的测试 激光散射法

起草单位:安徽长飞先进半导体有限公司、广东天域半导体股份有限公司、安徽芯乐半导体有限公司、南京国盛电子有限公司、浙江芯科半导体有限公司、河北普兴电子科技股份有限公司、中国科学院半导体研究所。

归口单位全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)与全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC203/SC2)

发布日期:2023-08-06

实施日期:2024-03-01

作者:粉体圈

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