据湖北日报近日报道，在武汉工程大学举办的新能源新材料产学融合创新论坛暨成果转化签约仪式上，该校赵培教授团队研发的化学气相沉积法制备碳化硅单晶的工艺及配套设备项目以2300万元成功转化至武汉新硅科技潜江有限公司。

据赵培教授介绍，这个项目采用化学气相沉积技术，能在“多维度、大尺寸”工件上制备多种功能薄膜，赋予工件更多功能及更为优越的性能，扩大工件应用范围，可以广泛用于机械、微电子、光学等领域。例如，碳化硅薄膜具有出色的硬度、耐磨性和抗腐蚀性能，因此可以用作涂层材料，以增强机械零件的耐磨性和寿命；碳化硅具有较高的热导率和较低的介电常数，可用于制备高性能散热材料和低介电常数的绝缘层；以较高的透过率和化学稳定性，碳化硅薄膜可用于光学涂层和光学器件。

新硅科技是一家专业从事高纯四氯化硅等高纯光电子材料研发、生产的高新技术企业，国内高纯四氯化硅的生产商之一，可以提供11N级产品，产品销售给国内各大光纤集团，并出口日本、韩国等地。目前主营产品有：高纯四氯化硅（STC，SiCl4），六氯乙硅烷（HCDS，Si2Cl6）。正在进行项目建设的新产品有（已研发）：四氯化钛（TiCl4）、三氯化硼（BCl3）、正硅酸乙酯（TEOS）、ALD/CVD前驱体材料（TDMAT等）、甲基（有机）硅烷类等。

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