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氟化钇13709-49-4・多层光学涂层(UV/NIR/MIR波段)・激光器窗口、红外透镜增透膜/保护膜・替代放射性氟化钍(ThF₄)用于光学涂层・干涉滤光片、光学窗口涂层航空航...
氯化钪是铝钪合金、高温合金的关键合金化剂,依托易溶于熔盐/熔剂、Sc³+分散性好的特点,添加后能显著细化合金晶粒,提升合金的强度、塑性和耐高温性,是航空、...
高纯优质钪源:电子级纯度达99.999%,杂质<10ppm,无重金属污染,适配电子、锂电等高端工艺的高纯需求;水溶性优异:极易溶于水,配液无沉淀,可制备任意浓度溶...
先进陶瓷与高温合金陶瓷增韧改性:作为氧化锆、氧化铝陶瓷的添加剂,形成固溶体,大幅提升陶瓷的断裂韧性、机械强度和耐高温性,应用于航空航天陶瓷部件、高端耐...
硝酸钪水合物作为高纯钪源,核心价值在于为各领域提供高纯度、易分散的钪离子,避免杂质引入影响产品性能,重点应用于以下场景,与电子半导体、新能源等高端产业...
硝酸铈铵是电子半导体领域高精度铜基刻蚀的核心专用强氧化剂,凭借高刻蚀效率、极致基材选择性、工艺易控性等核心优势,成为PCB精细线路、LCD液晶玻璃、半导体铜...
硝酸镧、硝酸铈(常规为三价Ce(NO₃)₃)均为稀土强酸弱碱盐,水溶液因稀土金属离子微弱水解生成H⁺呈酸性,无固定PH值,核心受溶液浓度、温度、纯度影响,浓度越高...
抛光效果优异,提升电子元件核心性能用于半导体芯片、记忆硬盘、显示器基板抛光时,可实现超精密镜面抛光,有效提升基板的可见光透光率(脱色后提升5%-8%)与表...
1、高选择性氧化:Ce⁴⁺氧化电位适中,可精准氧化目标官能团,不影响其他基团。,减少副产物,提高产品纯度,降低分离成本2、反应温和可控:常温反应,无需高温高...
电子与半导体行业(核心应用)电路板/液晶玻璃刻蚀:Ce⁴⁺将铜氧化为Cu²⁺,自身还原为Ce³⁺,60℃下1小时降解率达99%,是LCD、PCB制造的关键刻蚀剂半导体抛光:用于...