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醋酸镨试剂分子式：Pr(C2H3O2)3·4H2O分子量：389.91CASNO.:6192-12-7外观性状：绿色结晶体，易溶于水，有潮解性，密闭保存。用途：用于制造催化剂、制光学玻璃、...
醋酸钇水合物分子式：Y(C2H3O2)3·4H2O分子量：337.91CASNO.:15280-58-7外观性状：白色或无色结晶体，易溶于水，有潮解性，密闭保存。用途：用于制造催化剂、电子...
分子式：La(C2H3O2)3·4H2O分子量：387.91CASNO.:25721-92-0外观性状：白色或无色结晶体，易溶于水，有潮解性，密闭保存。用途：用于制造催化剂、制光学玻璃、陶...
分子式：Ce(C2H3O2)3·4H2O分子量：389.12CASNO.:206996-60-3外观性状：白色雪花状结晶体，溶于水。用途：用于制造三元催化剂、化学试剂等工业。包装：真空包装1...
推荐用途:半导体陶瓷喷嘴，陶瓷环
1.红外增透膜（ARCoating）基底：Ge、Si、ZnSe、ZnS、蓝宝石、玻璃常见结构：单层YF₃增透双层/多层：YF₃/ZnS、YF₃/Ge、YF₃/PbTe效果：单面剩余反射<1%双面增...
氟化钇（YF₃）是半导体刻蚀设备中最顶级的耐氟等离子体特种涂层材料，是先进制程（7nm/5nm/3nm）芯片制造的核心“防护盾”，主要用于**等离子刻蚀（Etch）、去胶（...
1.大气等离子喷涂APS优点：成本低、效率高、厚度可控缺点：致密度一般，可能微氧化适合：常规耐蚀件、内衬、结构件2.真空等离子喷涂VPS优点：致密度高、无氧化、...
主要用于刻蚀设备的抗等离子体腐蚀防护：刻蚀腔体、腔体内衬、屏蔽环、聚焦环喷淋头、气体分配盘、静电卡盘（ESC）反应腔内壁、石英/陶瓷件表面防护作用：耐受CF...
化学式：YF₃（三氟化钇）外观：白色或淡黄色粉末/涂层熔点：约1377°C，高温稳定性强化学特性：不溶于水、耐弱酸，强耐氟/氯等离子体侵蚀低氟离子扩散率、低释气...
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