...项目指标Al2O3(%)99.9MgO(%)0.01Na2O(%)0.03SiO2(%)0.04Fe2O3(%)0.01H2O(%)0.1Ph值8.6原晶(μm)0.10D50(μm)0.21烧结密度(g/cm3)3.94比表面积（m2/kg)11.9成瓷温度(℃)1250产品特点：本产品具有粒...

发布时间：2026-05-20 14:06:33 分类：氧化铝>

...本产品纯度＞99.95%，具有高球形度、高分散性、极窄粒度分布等特点，α相转化率＞95%，D50：100nm-150nm，D97:190nm-230nm,可用于CMP抛光液等领域。

发布时间：2026-05-20 14:00:35 分类：氧化铝>

...稀土硝酸盐六水硝酸钬结晶一、产品特点：分子式：Ho(NO3)3·6H2O分子量：458.93CASNO.:14483-18-2外观性状：淡黄色结晶体，易溶于水和醇，有潮解性，密闭保存。二、产品用途：用于制造钬化合物中...

发布时间：2026-05-19 17:17:32 分类：稀土>

...LCD/OLED玻璃基板CMP抛光（CAN→纳米CeO₂前驱体）案例1：8.5代TFT-LCD玻璃基板量产抛光场景：京东方/华星光电8.5代线，Array基板、CF基板双面超精平坦化原料：5N（99.999%）硝酸铈铵→水热法制备8...

发布时间：2026-05-19 10:11:26 分类：稀土>

...硝酸铈铵是LCD/OLED玻璃超精密抛光的“源头核心材料”：高纯度CAN制备的纳米CeO₂抛光液，能实现玻璃基板原子级平坦、高去除速率、低缺陷，同时适配铬掩模高精度蚀刻。关键规格（LCD/OLED级）纯度...

发布时间：2026-05-19 10:09:20 分类：稀土>

...硝酸铈铵（CAN，化学式(NH₄)₂Ce(NO₃)₆）是LCD/OLED玻璃化学机械抛光（CMP）的关键前驱体与功能性原料，核心用于制备高纯纳米氧化铈（CeO₂）抛光液，兼顾玻璃基板平坦化与铬掩模蚀刻双功能。一、...

发布时间：2026-05-19 10:07:05 分类：稀土>

...在液晶显示器生产中用作抛光剂和腐刻剂，医药行业用作催化剂，也用于合成车用三元催化剂一、作为抛光剂（CMP前驱体）1.作用原理高温分解（≈200℃）生成纳米CeO₂磨料（莫氏硬度6.5）。化学+机械协...

发布时间：2026-05-19 10:03:34 分类：稀土>

...硝酸铈铵核心优势（对比传统蚀刻液）✅超高精度：低侧蚀、边缘陡直，满足柔性OLED微米级开孔需求。✅柔性兼容：低温、不腐蚀PI/PET/玻璃，适配柔性基板形变控制。✅良率与稳定性：蚀刻均匀、速率可...

发布时间：2026-05-19 09:59:57 分类：稀土>

...硝酸铈铵（CAN，(NH₄)₂Ce(NO₃)₆）是柔性OLED高精度掩膜（FMM/CMM）制造中铬膜湿法蚀刻的核心化学品，决定掩膜微米级开孔精度、边缘陡直度与良率。二、在柔性OLED掩膜中的核心作用1.高精度铬膜蚀...

发布时间：2026-05-19 09:57:58 分类：稀土>

...OLED铬掩膜的产品优势：只蚀铬，不蚀玻璃/石英石英、玻璃在CAN体系中完全不腐蚀，掩膜基板不变形、不发雾。对光刻胶友好，不脱胶、不溶胀OLED用正胶/负胶（如KLT、SU-8）都兼容，低温（25–35℃）...

发布时间：2026-05-19 09:54:37 分类：稀土>