✅ 超高精度:低侧蚀、边缘陡直,满足柔性 OLED微米级开孔需求。
✅ 柔性兼容:低温、不腐蚀 PI/PET/ 玻璃,适配柔性基板形变控制。
✅ 良率与稳定性:蚀刻均匀、速率可控、无过蚀 / 爆蚀,适合卷对卷大批量生产。
✅ 环保易处理:水溶性好,Ce³⁺可回收,Cr⁶⁺还原达标,符合洁净制程。
柔性 OLED 精细金属掩膜(FMM):因瓦合金 / 超薄不锈钢箔(20–100 μm)表面铬层图形化,用于 RGB 有机材料蒸镀,决定分辨率与色彩均匀性。
柔性光掩模(Photomask):PI 基板 + 铬遮光膜,用于柔性电路、触控屏、OLED 阵列制程的高精度图形转移。
OLED 触控与阻隔层:柔性基板上铬 / 钼金属线路蚀刻,低温兼容、无残留。
基础配方(wt%):硝酸铈铵 10–20% + 硝酸 1–5% + 去离子水,橙色透明液体,0.2 μm 过滤。
工艺参数:
温度:25–35℃(±0.5℃恒温)。
pH:<1(强酸性)。
方式:喷淋 / 浸泡,蚀刻后去离子水冲洗、去胶、烘干。