硝酸铈铵（CAN，(NH₄)₂Ce (NO₃)₆） 是柔性 OLED 高精度掩膜（FMM/CMM） 制造中铬膜湿法蚀刻的核心化学品，决定掩膜微米级开孔精度、边缘陡直度与良率。

二、在柔性 OLED 掩膜中的核心作用

1. 高精度铬膜蚀刻（最关键）

• 掩膜结构：柔性基板（PI / 超薄玻璃）+ 100–150 nm 铬（Cr）遮光层 + 光刻胶。

• 蚀刻原理：CAN 为强氧化剂（Ce⁴⁺，E°≈1.61 V），在弱酸（硝酸 / 高氯酸）体系中选择性蚀刻铬层，不损伤柔性基底、光刻胶与 OLED 有机层。

• 精度指标：

• 蚀刻速率：50–150 nm/min（25℃），可控稳定。

• 侧蚀（undercut）：<0.1 μm，边缘陡直、无毛刺 / 针孔。

• 开孔精度：适配200–500 PPI柔性 OLED 像素蒸镀，位置精度 ±0.5 μm。

2. 柔性基板适配性

• 低温工艺：蚀刻温度25–35℃，避免 PI/PET 柔性基板热变形（<50℃）。

• 高选择比：对 Cr/Cr 合金蚀刻速率远高于基底（PI、SiO₂、ITO），不伤膜层、良率高。

3. 掩膜性能强化（辅助）

• 紫外屏蔽：Ce⁴⁺吸收 200–350 nm 紫外，提升柔性掩膜抗老化、防泛黄能力。

• 增透与耐磨：可制备 SiO₂-CeO₂复合膜，透光率 92%+，硬度 5H+，适配柔性显示光学需求。