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硝酸铈铵是微电子、PCB、光掩膜、显示电路等领域常用的酸性高效蚀刻剂，尤其适合铬膜、钛膜、金属薄膜的精细刻蚀，优势非常突出：
强氧化性，对铬、钛、钼等常用金属薄膜蚀刻速度快
常温或中低温即可反应，无需高温加热，能耗更低、工艺更安全
反应可控性强，侧蚀小、垂直度好，适合精细线路与微米级图形
线宽控制稳定，适合光掩膜、TFT、IC 晶圆、柔性线路板等高精度场景
蚀刻后金属表面平整、无毛刺、无残留
不易出现过蚀、局部蚀穿等缺陷，良率更高
水溶性好，配液方便，可直接用于喷淋、浸泡蚀刻
反应终点易判断，便于自动化产线使用
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