遮光铬膜专用硝酸铈铵蚀刻剂


专为遮光铬膜(Cr/CrOx) 精密图形化设计的高选择性蚀刻剂,以硝酸铈铵(CAN, (NH₄)₂[Ce (NO₃)₆])为核心,适配光掩模、LCD/TFT、OLED、MEMS 等高端制程,实现低侧蚀、边缘陡直、无残留的精准蚀刻。

常见问题与对策

  1. 蚀刻速率过慢:排查 CAN 浓度是否达标、温度是否低于 25℃、溶液是否被还原剂污染。

  2. 边缘侧蚀严重:优化搅拌效率、采用喷淋工艺、检查光刻胶附着力是否达标。

  3. 蚀刻后表面返黑:缩短蚀刻时间、加强后段水洗、避免基底残留蚀刻液。

  4. 光刻胶受损:更换耐 CAN 型光刻胶(如 KLT 系列)、降低蚀刻温度或缩短时间。

硝酸铈铵的分子式为(NH4)2Ce(NO3)6·2H2O,分子量为584.23,CAS号为16774-21-3。


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备注: 硝酸铈铵 硝酸铈(Ⅳ)铵 cas:16774-21-3