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半导体掩膜版蚀刻 硝酸铈铵高纯度 CAN 溶液
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集成电路抛光材料： 半导体掩膜版蚀刻：
二水硝酸铈铵CAS:16774-21-3
| 光学性能 | 高透过率 (>98%)、低反射 (<5%)、可调折射率 (1.9-2.2) | | 化学稳定性 | 耐酸、耐碱、抗氧化，工作温度可达 500℃以上 | | 工艺适应性 | 适用于多种基材 (玻璃、硅、金属、陶瓷)，可通过调整工艺参数控制膜厚 (10nm-1μm) | | 环保性 | 无毒 (铈为稀土元素，生物相容性好)，部分工艺无有害排放 |
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联系方式 |
| 单位名称：
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山东德盛新材料有限公司
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| 联系人：
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姬元元
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| 联系电话：
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18905372177
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| 传真：
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| 地址：
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济宁市金宇路52号创新大厦东区D座二层
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| E-mail：
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jyy@xitucn.com
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| 网址：
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山东德盛新材料有限公司
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| 备注：
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硝酸铈铵溶液，二水硝酸铈铵，硝酸铈铵化学稳定性，硝酸铈铵含量检测
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