高纯度氢氧化镧在光学薄膜中的应用
氢氧化镧化学式为La(OH)3,CAS号为14507-19-8,分子量为189.93。不溶于水,但能溶于强酸。易吸收空气中的CO2,具有具有优异的光,电,磁性能,并且被人们作为催化剂,吸附剂,荧光剂等得到广泛的应用。
氢氧化镧具有高折射率和高透过率的特点，能够满足光学薄膜对光线传播和折射的要求，可用于制造具有特定光学性能的薄膜，以调节光线的反射、折射和透射，满足光学仪器以及光通信等相关行业需要。
氢氧化镧薄膜具有潜在的单层抗反射功能，其纳米棒薄膜可使可见光波段反射光损失显著减少。将直径为 20nm 的二氧化硅沉积在高粗糙度的氢氧化镧薄膜上，可获得兼具超亲水性和防雾特性的复合薄膜，且抗反射特性没有损失，这种薄膜在光学器件表面防护等方面具有广泛应用前景。
氢氧化镧可以与其他材料复合，形成性能更优的光学薄膜。例如，它可以与二氧化硅等材料结合，通过合理的制备工艺，调控薄膜的微观结构和光学性能，以适应不同的应用需求。此外，氢氧化镧还可作为制备氧化镧薄膜的前驱体材料。通过化学气相沉积等技术，可将氢氧化镧转化为氧化镧薄膜，用于半导体等领域的光学器件制造。
粉体圈首页
