制备高性能陶瓷材料 氟化铈

通过以上工艺制备的氟化铈陶瓷,兼具优良的化学稳定性、高温稳定性和力学性能,可用于高温结构部件、核工业耐腐材料、红外光学陶瓷元件等高端场景。

  • 光学行业:氟化铈具有高折射率和低吸收系数的特点,可用于制备光纤、激光器、光电探测器等光学器件。在光纤通信中,它作为光纤的芯部材料,可以提高光纤的传输性能和信号质量。

  • 电子行业:氟化铈可作为高性能的电子陶瓷材料,用于制造半导体器件、电子封装材料、高频陶瓷滤波器等。在半导体工业中,它可用于制造高可靠性、高性能的电子器件,三星电子和英特尔等国际巨头均对氟化铈有较大需求。

  • 催化行业:在石油化工行业中,氟化铈作为催化剂或催化剂载体,可以提高催化剂的活性和选择性,降低能耗。在环保领域,它可用于处理废水、废气等污染物,如催化氧化、催化还原等过程,对于改善环境质量具有重要意义。

  • 陶瓷和玻璃行业:在陶瓷制造中,氟化铈可用于制备高性能陶瓷,如结构陶瓷和功能陶瓷,添加氟化铈可改善陶瓷的烧结性能、力学性能和化学稳定性。在玻璃制造中,氟化铈可作为添加剂,用于调整玻璃的折射率、化学稳定性和热稳定性等性能。

  • 医疗行业:氟化铈具有优良的生物相容性和稳定性,可用于制造生物医用材料,如在骨科、牙科等领域用于制造植入物和假体等医疗器械。

  • 核工业:氟化铈闪烁陶瓷具有高光输出、高辐射抗性和良好的热稳定性,广泛应用于辐射探测器、核医学、安防检查和粒子物理实验中,是高精度成像和辐射监测的理想选择。

  • 化学式:CeF₃

  • 分子量:197.11

  • CAS 号:7758-88-5

  • 外观:白色晶体粉末

物理性质

  • 熔点:1280℃

  • 沸点:2460℃

  • 密度:6.16g/mL(25℃)



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