铜箔精密蚀刻：在印刷电路板（PCB）制作中，硝酸铈铵蚀刻液可选择性去除未被光刻胶保护的铜层，形成电路图案。其优势在于蚀刻速率可控、边缘平整，适用于高精度线路的加工。与传统的氯化铁蚀刻液相比，硝酸铈铵蚀刻液对环境的污染较小，且废液处理相对容易。
蚀刻金属层：在半导体器件的金属化工艺中，硝酸铈铵可用于蚀刻钛、钽等金属层，精度高且对硅基底的损伤小。例如在芯片制造中，可用于蚀刻钛或氮化钛等阻挡层，还可辅助制备半导体薄膜，通过蚀刻调整薄膜厚度或图案，用于光电器件的制造
中文别名：硝酸铈(Ⅳ)铵, 硝酸铈铵二水合物;英文名Diammonium cerium(IV) nitrate
分子式：(NH4)2Ce(NO3)6·2H2O
硝酸铈铵分子量：584.23
CAS . :16774-21-3
外观性状：桔红色单斜晶系细小结晶，易溶于水，有潮解性，密闭保存。
工业级硝酸铈铵用途：用于电路板刻蚀剂、医药合成、化学试剂等行业。
主要用作有机合成催化剂、氧化剂、聚合引发剂、集成电路腐蚀剂。硝酸铈铵作为氧化剂和引发剂，具有反应活性高、选择性好、用量少、污染小等优点。
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