氯化铟作为金属有机化合物气相沉积（MOCVD）制备过程的重要原材料。
高纯铟制品还可作为金属卤化物的前驱体，用于硅衬底上的晶片制备，对提升半导体产品质量与性能起到关键作用。
三氯化铟在液晶显示器制造中，同样也是制造透明电极不可或缺的化学物质。本品通过与锡酸盐、氧化钇等材料一起合成，氯化铟能够助力形成稳定且高效的透明电极，从而提升显示器的亮度、色彩稳定性以及电信号的传输速度，显著优化显示效果。
关于四水氯化铟产品的主要性质介绍
英文名称: Indium chloride
CAS NO. 22519-64-8
分子式: InCl3·4H2O
分子量: 221.18
EINECS号: 233-043-0
氯化铟具有良好的化学稳定性,但在空气中会与氧气反应生成氯化氢和氧化铟,
用于氧化铟锡（ITO）、氧化铟锌（IZO）等透明导电膜，广泛应用于触摸屏、太阳能电池、OLED 显示基板。
产品优势介绍与金属铟靶材相比，氯化铟前驱体成本更低，且溶液法适合大面积均匀成膜。
将 InCl₃・4H₂O 添加到靶材中，通过磁控溅射制备 In 掺杂 ZnO（IZO）薄膜，实现 p 型导电，用于异质结器件。
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