复合氟化钇镀膜材料是以氟化钇（YF₃）为基体，通过与其他氟化物（如 LaF₃、MgF₂、AlF₃、GdF₃等）或功能性掺杂元素复合形成的一类特种光学镀膜材料。其设计核心是通过多元复合优化性能，满足光学镀膜对折射率调节、稳定性提升、波段适配等需求，广泛应用于精密光学、激光技术、红外探测等领域
优异的稳定性
低光学损耗
复合成分纯度高且无明显杂质吸收，膜层的光吸收系数＜1×10⁻⁴（近红外波段），可减少激光或光信号传输中的能量损耗。
良好的成膜性
粉末状材料在真空蒸镀时易挥发、成膜均匀；靶材溅射时膜层致密度高（孔隙率＜5%），与基底（玻璃、蓝宝石、锗等）附着力强（附着力测试＞5N/cm²）
| 折射率调节 | 范围宽（1.40-1.60），灵活适配膜系 |
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