...JY998具备纯度高、原晶粒度小且均匀等特性，再通过特殊的喷雾干燥法制成特定的造粒粒度范围，我们设计了优良的低压成型可塑性和成型易排气特性等，可广泛的应用于陶瓷滑轨、各种陶瓷大件等产品...

发布时间：2026-04-11 15:37:56 分类：氧化铝>

...推荐用途:陶瓷结构件、陶瓷量具、绝缘件、金属陶瓷

发布时间：2026-04-11 15:34:52 分类：氧化铝>

发布时间：2026-04-11 15:31:59 分类：氧化铝>

...JY997具备纯度高、原晶粒度小且均匀等特性，再通过特殊的喷雾干燥法制成特定的造粒粒度范围，我们设计了优良的低压成型可塑性和成型易排气特性等，可广泛的应用于陶瓷滑轨、各种陶瓷大件等产品...

发布时间：2026-04-11 15:28:52 分类：氧化铝>

...JY998具备纯度高、原晶粒度小且均匀等特性，再通过特殊的喷雾干燥法制成特定的造粒粒度范围，我们设计了优良的低压成型可塑性和成型易排气特性等，可广泛的应用于陶瓷滑轨、各种陶瓷大件等产品...

发布时间：2026-04-11 15:26:23 分类：氧化铝>

...1.红外增透膜（ARCoating）基底：Ge、Si、ZnSe、ZnS、蓝宝石、玻璃常见结构：单层YF₃增透双层/多层：YF₃/ZnS、YF₃/Ge、YF₃/PbTe效果：单面剩余反射<1%双面增透后透过率>98%2.宽带增透膜波...

发布时间：2026-04-11 11:20:38 分类：稀土>

...氟化钇（YF₃）是半导体刻蚀设备中最顶级的耐氟等离子体特种涂层材料，是先进制程（7nm/5nm/3nm）芯片制造的核心“防护盾”，主要用于**等离子刻蚀（Etch）、去胶（Ashing）、沉积（PVD/CVD）**等...

发布时间：2026-04-11 11:18:17 分类：稀土>

...1.大气等离子喷涂APS优点：成本低、效率高、厚度可控缺点：致密度一般，可能微氧化适合：常规耐蚀件、内衬、结构件2.真空等离子喷涂VPS优点：致密度高、无氧化、结合力强适合：半导体腔体、高端...

发布时间：2026-04-11 11:16:33 分类：稀土>

...主要用于刻蚀设备的抗等离子体腐蚀防护：刻蚀腔体、腔体内衬、屏蔽环、聚焦环喷淋头、气体分配盘、静电卡盘（ESC）反应腔内壁、石英/陶瓷件表面防护作用：耐受CF₄、SF₆、F₂等氟基等离子体刻蚀降...

发布时间：2026-04-11 11:15:26 分类：稀土>

...化学式：YF₃（三氟化钇）外观：白色或淡黄色粉末/涂层熔点：约1377°C，高温稳定性强化学特性：不溶于水、耐弱酸，强耐氟/氯等离子体侵蚀低氟离子扩散率、低释气、高纯度（半导体级99.9%~99.99%...

发布时间：2026-04-11 11:14:03 分类：稀土>