主要用于刻蚀设备的抗等离子体腐蚀防护:
刻蚀腔体、腔体内衬、屏蔽环、聚焦环
喷淋头、气体分配盘、静电卡盘(ESC)
反应腔内壁、石英 / 陶瓷件表面防护作用:
耐受 CF₄、SF₆、F₂ 等氟基等离子体刻蚀
降低颗粒污染,提高芯片良率
延长设备部件寿命,减少维护
利用其中红外高透过、低折射率、耐磨特性:
红外窗口、透镜、整流罩涂层
激光腔体、激光晶体防护
红外热成像、夜视仪、LiDAR 光学件特点:2–12 μm 波段透过率高,兼具防护与光学性能
航空发动机燃烧室、喷管、叶片热障涂层
火箭发动机喷管、燃气舵防护
高超音速飞行器热防护结构优势:
耐高温(熔点~1377℃)
抗热震、低热导率、抗高温燃气腐蚀
强腐蚀工况:含氟介质、卤素气氛、高温酸碱环境
化工反应釜、管道、阀门内衬涂层
金属 / 陶瓷部件表面耐磨、耐蚀改性
特种陶瓷、电子封装材料表面改性
燃料电池、传感器耐蚀绝缘涂层
精密仪表、真空设备内部抗污染涂层