• 化学式：YF₃（三氟化钇）

• 外观：白色或淡黄色粉末 / 涂层

• 熔点：约 1377°C，高温稳定性强

• 化学特性：

• 不溶于水、耐弱酸，强耐氟 / 氯等离子体侵蚀

• 低氟离子扩散率、低释气、高纯度（半导体级 99.9%~99.99%）

• 光学：中红外（2–12 μm）高透过、低折射率

• 热学：低热导率、良好抗热震性

二、核心性能优势（涂层）

1. 耐等离子体腐蚀在 F、CF₄、SF₆等刻蚀环境中，稳定性远优于 Al₂O₃、Y₂O₃，几乎不产生颗粒污染。

2. 高致密度与结合强度等离子喷涂 + 后处理：孔隙率＜2~3%，结合强度可达 50 MPa 以上。

3. 低杂质释放高纯 YF₃涂层在半导体真空 / 等离子工艺中极少释放金属杂质，保障良率。

4. 隔热与抗热震热导率低、抗热震性优于传统 YSZ 涂层，可承受1000℃→室温反复热冲击。

5. 光学兼容红外透过、低折射率，可兼作光学防护 + 增透功能。