LCD/OLED 铬掩模版：玻璃 / 石英基板溅射100‑150 nm 金属铬遮光层，用于面板曝光，生成像素、走线、PDL 像素定义层图形；硝酸铈铵‑高氯酸体系是行业主流铬湿法蚀刻液。
一、蚀刻原理
依靠酸性介质中Ce4强氧化性氧化金属铬:
3Ce4 +Cr->Cr3+ +3Ce3+
·Cr被氧化成可溶性三价铬离子溶解;
·Ce还原为Ce3;
·对玻璃、石英、光刻胶、SiO2几乎无腐蚀，选择比极高，侧蚀可控，满足显示精细图形要求。
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