光电掩模行业半导体光刻掩膜、LCD/OLED 铬掩模版、光学光栅、精密标尺、分光片遮光层图形化;掩膜版返工脱铬。
PCB/FPC 微电子HDI 高密度板、IC 载板、柔性 FPC 细线(20‑50 μm);薄铜箔图形化、镀层返修;无氯离子,线路边缘毛刺少。
MEMS 与薄膜器件薄膜电阻、金属电极图形化;化合物半导体 GaAs 基器件薄膜加工。
光学行业返工处理玻璃基板表面旧铬反射膜、铬遮光层退除,镜片镀膜前残膜清理,不伤玻璃本体平整度。
化学式为(NH4)2Ce(NO3)6,又称硝酸铈(IV)铵,英文名Ammonium cerium(IV) nitrate,CAS号16774-21-3,分子量548.22。该化合物为橙红色单斜晶系结晶粉末,易潮解,密度1.10g/cm³,熔点107-108℃。易溶于水和乙醇,