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产品分类 磨料, 磁性材料, 稀土, 氧化锆,
  • 名称:16774-21-3半导体光刻掩膜材料硝酸铈铵
    关注:11
    相关:二水硝酸铈铵,半导体光刻掩膜,16774-21-3
    产品型号:16774-21-3
    产地:济宁
    报价:20
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产品介绍

二水硝酸铈铵行业场景应用范围

  1. 光电掩模行业半导体光刻掩膜、LCD/OLED 铬掩模版、光学光栅、精密标尺、分光片遮光层图形化;掩膜版返工脱铬。

  2. PCB/FPC 微电子HDI 高密度板、IC 载板、柔性 FPC 细线(20‑50 μm);薄铜箔图形化、镀层返修;无氯离子,线路边缘毛刺少。

  3. MEMS 与薄膜器件薄膜电阻、金属电极图形化;化合物半导体 GaAs 基器件薄膜加工。

  4. 光学行业返工处理玻璃基板表面旧铬反射膜、铬遮光层退除,镜片镀膜前残膜清理,不伤玻璃本体平整度。

化学式为(NH4)2Ce(NO3)6,又称硝酸铈(IV)铵,英文名Ammonium cerium(IV) nitrate,CAS号16774-21-3,分子量548.22。该化合物为橙红色单斜晶系结晶粉末,易潮解,密度1.10g/cm³,熔点107-108℃。易溶于水和乙醇,

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