4N（99.99%）及以上纯度的高纯氧化铝Al₂O₃（HPA）因其卓越的物理、化学和光学和电学等特性而被广泛用于各种高端应用中，被公认是为现代科技和工业领域提供了重要支持的基础关键材料。

作为一家紧紧围绕高纯氧化铝做文章的高科技企业，宁波国锋新材料科技有限公司（国锋新材料）具有先进的生产加工设备和工艺技术，设计年生产能力为1000吨/年，主要生产高纯氧化铝研磨介质、高纯氧化铝陶瓷粉、高纯氧化铝专用粉、高纯氧化铝抛光粉抛光液、高纯氧化铝纳米悬混液、透明氧化铝陶瓷管（件）六大系列，并已取得ISO与SGS等资质认证。以下具体了解下国锋新材料开发的高附加值产品吧！

1、高纯氧化铝研磨介质

相比常见氧化锆磨介，高纯氧化铝磨介可以为一些应用提供特别支持，甚至可以说具有重大意义和必要性，为相关产业升级做出了极大贡献。比如，CMP抛光粉抛光液、高性能陶瓷粉体（以碳热还原法制备氮化铝粉体时，氧化铝和碳粉混料过程中需要用高纯氧化铝磨介做分散介质）、高端氧化铝基板和氮化铝基板（氮化铝基板和氧化铝996以上基板做流延前的粉体改性都需要用高纯氧化铝球作为研磨分散介质）、高纯纳米氧化铝加工等等，都对纯度有极高要求；另外在要求耐酸碱、耐腐蚀、耐高温的工况下，高纯氧化铝磨介满足极高化学稳定性的同时也具备强度高、硬度高、磨耗低的优点。

产品规格：0.2-10mm，密度≥3.8g/cm³，堆密度≥2.2g/cm³。

2、高纯氧化铝陶瓷粉

在蓝宝石长晶、激光晶体、半导体、陶瓷以及照明行业等行业，对氧化铝粉体纯度要求极高，4N以上纯度粉体才能制备高品质蓝宝石晶体，确保半导体衬底和基板的电气稳定和可靠，以及制备出耐腐蚀和光学陶瓷材料。

部分产品指标

产品规格：高纯氧化铝陶瓷粉粒度由0.1um-6um可调可控，粉体粒度分布窄、颗粒均匀一致性好，α晶相占比96%。

3、高纯氧化铝专用粉

高纯氧化铝是制备氮化铝粉体、透明陶瓷、高端氧化铝基板，半导体陶瓷的主材，不同应用对粉体有不同要求，细微的差别都可能导致终端效果的大相径庭。比如，氮化铝粉体对纯度和粒径分布非常敏感；透明陶瓷则对粉体微观结构提出要求；高端氧化铝基板不仅要求纯度，同时也要满足粉体流动性、压实性和烧结性能；半导体应用除了纯度和晶粒尺寸，也关注介电常数、热导率等等，上述原因也意味着供应商必须具备优秀的产品开发定制能力。

部分产品指标

高纯氧化铝专用粉系列由多种工艺制备而成，具有纯度高、粒径小、分布均匀、工艺性能稳定、分散性好、良好的低温烧结性。制作的成品有导热系数高，介电常数高，电性能好等特点，材料匹配适用性强，粉体各项指标可根据客户需求定制,使客户得到满意的使用效果。

4、高纯氧化铝抛光粉（抛光液）

高纯氧化铝抛光粉具有硬度高、粒度分布集中、性能稳定。难溶于酸、碱溶液，拥有良好的耐腐蚀性能；高纯氧化铝抛光液是以粒径均匀的微晶纳米氧化铝颗粒为磨粒，不添加硫、磷、氯添加剂的水性抛光剂，悬浮性能高，不易沉淀——具有较高的晶体表面去除率、低表面粗糙度以及清洗简便，不会形成顽固结晶。高纯氧化铝抛光粉和抛光液是半导体、陶瓷、金属等行业表面处理的常用磨料。

典型指标

氧化铝抛光粉硬度高、密度分布集中、晶粒发育饱满；氧化铝抛光液颗粒大小均匀，适用于蓝宝石C向片、M向片、陶瓷、黑色金属、铝和不锈钢等其他金属合金抛光，并可多次循环使用，相比传统的抛光液加工效率提高约3-4倍，成本节约30-50%，加工流程短，且不会在表面形成顽固结晶，降低清洗成本。

5、透明氧化铝陶瓷管（件）

透明氧化铝陶瓷对可见光和红外光具有良好的透过性，同时也具有高温强度大、耐热性能好、耐腐蚀性强及电阻率大等特点。主要应用于高压钠灯、金属卤化物等高强度气体放电灯的以及透红外窗口材料。

技术指标

透明陶瓷管（件）氧化铝含量≥99.99%，密度≥3.96g/cm³，介电常数10MHz，击穿强度≥60KV/mm，全透光率≥95%。

小结

国锋新材料的研磨介质的产品具强度高、硬度高、磨耗低，Al₂O₃≥99.99%，适用于高纯度材料加工；粉体材料具有纯度高、化学性能稳定、高温收缩性能适中，具有良好的烧结性能以及普通氧化铝粉无法比拟的光、电、磁、热和机械性能，在高技术新材料领域和现代化工业中有着广泛应用。

透明氧化铝陶瓷管（件）是国锋新材料对高纯氧化铝粉体下游制品的成功探索和产业延伸。公司现拥有高温氢气气氛炉十余台，专门针对于材料在氢气气氛环境中进行烧结或者退火，其烧结温度最高可达1850℃。高温还原气氛环境不但可以避免氧化铝的高温反应，也有利于减少其他氧化物杂质，在陶瓷制备、光学材料、激光器件、稀土材料等领域都可发挥重大作用，这也让国锋新材料有足够能力扩容高端产品阵容。

粉体圈 郜白

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