近日，专注于稀土抛光粉、CMP抛光液两大系列产品业务的省专精特新“小巨人”企业湖南皓志科技股份有限公司（皓志科技）登陆新三板。

皓志科技公开其特色专利技术“一种氧化锆研磨液的生产工艺”荣获湖南省重点发明专利，“半导体用纳米级氧化铝抛光液”突破国外先进抛光液工艺限制，填补了国内第三代半导体碳化硅晶片批量加工抛光液的技术空白，被湖南省工业和信息化厅认定为“省级工业新产品”。稀土抛光粉产品系列主要成分为氧化铈，主要应用于各类玻璃抛光，包括相机镜头、凹凸透镜、3C电子屏幕以及安防、军工等领域。抛光液按成分有氧化锆、氧化硅、氧化铝、碳化硼等系列，其中氧化锆系列用于光学玻璃抛光；氧化硅系列用于蓝宝石、碳化硅晶圆抛光；氧化铝系列用于蓝宝石衬底、窗口、碳化硅晶圆抛光；碳化硼系列助磨剂主要用于蓝宝石材料及有特殊要求的金属材质抛光。

据皓志科技公开转让说明书信息披露，目前国内稀土抛光粉与进口产品普遍存在颗粒控制技术、晶型和形貌控制技术等方面的差距，比如高性能稀土抛光材料中的大颗粒及异物控制难以降低等。近年来，随着我国晶圆厂持续扩产扩建等因素，我国CMP抛光液需求持续增长，在国家产业政策扶持和社会资金支持等利好条件下，国内CMP抛光液领域将涌现更多具有国际竞争力的产品，在更多关键领域实现进口替代，进一步提升CMP抛光液国产化水平。

粉体圈 整理