体系：硝酸铈铵 + 硝酸，强氧化性、酸性腐蚀液，用于 LCD/OLED 铬掩膜 Cr/CrOx 蚀刻，分为配液、上机使用、槽液维护、安全防护、储存废液5 个部分

一、配液注意事项

1. 加料顺序：酸先加水，再加入硝酸铈铵固体禁止将水直接倒入浓硝酸（会爆沸飞溅）；待硝酸水溶液降温至室温后，再缓慢撒入硝酸铈铵，搅拌至完全溶解。

2. 使用PP/PE 容器，禁止普通玻璃长期盛装：玻璃中金属离子析出，加速 Ce⁴⁺分解、槽液劣化。

3. 原料纯度：掩膜光刻使用电子级硝酸铈铵与硝酸，降低 Fe 等重金属杂质，杂质会催化 Ce⁴⁺分解。

4. 配液环境：避光操作，尽量减少配液过程光照暴露；配好后密闭遮光静置，去除气泡再投入使用。

二、上机蚀刻使用

1. 温度管控：工艺温度推荐 22～28℃，严禁超过 30℃；温度过高，Ce⁴⁺分解快、侧蚀增大、CD 线宽失控；温度过低蚀刻速率偏低、均匀性变差。

2. 全程遮光：蚀刻槽、供液管路、储液桶必须避光；可见光 / 紫外光引发 Ce⁴⁺光解，活性快速下降。

3. 工件前处理：铬掩膜基板表面无油污、颗粒、金属碎屑；带入 Fe、Cr 杂质会加速槽液失效。基板入水避免带入大量纯水稀释槽液酸度。

4. 工艺监控：定时取样检测：Ce⁴⁺浓度、游离硝酸酸度、Cr³⁺含量；根据结果补加硝酸铈铵或硝酸，不要盲目补料。

5. 搅拌 / 喷淋：搅拌均匀，但不要剧烈曝气；大量空气带入会加速 Ce⁴⁺氧化分解。

三、槽液维护与寿命管理

1. 静态暂存（停机）：槽液保持密闭遮光，温度维持 20℃左右；停机期间依然会缓慢分解，间歇生产槽寿命比连续生产更短。

2. 终点管控：Cr³⁺累积达到工艺上限（一般 8~12 g/L）、蚀刻速率波动＞±10%、溶液浑浊 / 出现沉淀，必须整槽更换，单纯补料无法恢复蚀刻品质。

3. 禁止混入其他化学品：盐酸、氢氟酸、碱性溶液、有机溶剂，会引发沉淀、释放有毒气体、破坏蚀刻体系。

四、人身安全防护（强氧化 + 强酸性）

1. 个人防护：耐酸 PP / 丁腈手套、防酸护目镜、面屏、耐酸防护服；禁止乳胶手套（不耐硝酸腐蚀）。

2. 操作区域：配备紧急洗眼器、安全淋浴；操作台设防酸围堰。

3. 接触应急：

• 皮肤溅到：大量流动清水冲洗至少 15 分钟；

• 入眼：立即持续清水冲洗，就医；

• 误吸入蒸汽：转移至空气新鲜处休息；

• 误食：不要催吐，立刻就医。

4. 严禁：和有机物、还原剂、易燃物混放；硝酸铈铵体系为强氧化剂，接触纸张、木屑、酒精等可引发燃烧。