路线 1：红外光学薄膜

靶材：陶瓷YF3射频磁控溅射靶（绝缘材料，只能 RF 溅射）适用基底：Ge、Si、ZnS、ZnSe、蓝宝石、YAG 激光晶体典型膜系用途：1）红外窗口 / 镜头宽带增透膜 ARYF₃（低 n）+ ZnS/Ge/HfO₂（高 n）应用：热像仪、红外测温、光电吊舱、导引头窗口2）红外元件防潮耐磨保护膜镀在 ZnSe、YAG 晶体最外层，隔绝水汽，防止基底氧化3）红外激光膜系✅1064 nm Nd:YAG（近红外）、✅2.7 μm、✅3.8 μm、✅10.6 μm CO₂红外激光腔镜、输出镜多层介质膜

关键关联前文：YAG 激光晶体端面镀膜，近红外 1064nm 同时属于红外波段，YF₃靶材是通用方案。

路线 2：块体氟化钇红外窗口

热压烧结 YF₃陶瓷窗口，密度 4.01 g/cm³，轻量化，用于小型红外探测器；缺点：大尺寸制备难度高，主流还是薄膜应用。

四、红外镀膜用氟化钇靶材技术要求（采购 / 工艺重点）

1. 纯度红外、激光镀膜：4N（99.99%）起步；高端光电系统 4N5/5N严控杂质：氧、稀土杂质、重金属（微量杂质诱发红外吸收）

2. 烧结工艺热压烧结 / HIP 热等静压；相对密度≥94%，降低孔隙（孔隙会造成红外散射损耗）

3. 绑定：无氧铜背板 In 焊，适配射频磁控溅射线

4. 工艺风险（红外镀膜痛点）

• 高温有氧环境溅射 → 生成YOF 氟氧化钇 → 红外波段产生吸收，透过率下降