氟化钇是中红外、激光光学最常用低折射率镀膜材料，广泛制备多层增透膜（AR 膜）13709-49-4

• 光谱透过区间极宽透过范围：0.2 μm（紫外）～12 μm（长波红外）\(\ce{MgF2}\) 在＞7 μm 红外开始明显吸收，无法用于长波红外；YF₃可以覆盖 3～5μm、8～12μm 两大红外大气窗口。

• 膜层机械稳定性、耐湿热好膜层致密，不易潮解；相比氟化镧\(\ce{LaF3}\)抗水解能力更强，户外、机载光电设备优先选用。

• 激光损伤阈值较高适合中红外激光器、连续 / 脉冲激光窗口、输出镜增透膜。

• 膜层应力适中厚膜不易开裂，可设计多层复杂膜系。

（镀氟化钇增透膜）

1）中红外热成像系统（最大应用场景）

• 红外测温窗口、热像仪镜头、光电吊舱、车载红外、无人机光电载荷基底材料：锗 Ge、硅 Si、硫化锌 ZnS、硒化锌 ZnSe、蓝宝石经典膜系组合：YF₃（低折） + ZnS / ZnSe（高折） 交替多层增透膜

举例：8～12μm 长波红外 ZnSe 窗口多层 AR 膜：基底｜[YF₃ / ZnS]^m｜空气

2）中红外激光光学元件

Er:YAG、Er:YLF 2.7～3 μm 医疗激光、工业激光窗口、分光镜、输出耦合镜增透膜。

3）紫外～真空光学、深空探测光学

紫外光谱仪、航天光学窗口增透与保护膜（少量高端场景）