专为遮光铬膜（Cr/CrOx） 精密图形化设计的高选择性蚀刻剂，以硝酸铈铵（CAN, (NH₄)₂[Ce (NO₃)₆]）为核心，适配光掩模、LCD/TFT、OLED、MEMS 等高端制程，实现低侧蚀、边缘陡直、无残留的精准蚀刻。

常见问题与对策

1. 蚀刻速率过慢：排查 CAN 浓度是否达标、温度是否低于 25℃、溶液是否被还原剂污染。

2. 边缘侧蚀严重：优化搅拌效率、采用喷淋工艺、检查光刻胶附着力是否达标。

3. 蚀刻后表面返黑：缩短蚀刻时间、加强后段水洗、避免基底残留蚀刻液。

4. 光刻胶受损：更换耐 CAN 型光刻胶（如 KLT 系列）、降低蚀刻温度或缩短时间。

硝酸铈铵的分子式为(NH4)2Ce(NO3)6·2H2O，分子量为584.23，CAS号为16774-21-3。