硝酸铈铵蚀刻铬膜 主流应用领域

一、光电显示行业（核心主力）

1. LCD 液晶掩模版液晶面板阵列、彩膜基板铬掩膜蚀刻，制作精细像素线路

2. OLED 有机屏掩膜高精度铬遮光膜蚀刻，适配柔性屏、微屏精细图案

3. 触控屏光罩电容屏线路曝光铬版蚀刻

二、半导体光刻领域

1. 半导体光刻铬版芯片制程用光掩模版，亚微米级精密铬层图形蚀刻

2. 晶圆辅助遮光掩膜芯片曝光、离子注入专用铬遮光板

3. MEMS 微机电掩膜微型传感器、微流控芯片精密图形制作

三、光学精密元件

1. 光学镀膜掩膜滤光片、分光镜、增透膜镀膜用铬遮光模板

2. 激光器件光罩激光测距、激光模组定位遮光铬板

3. 摄影 / 摄像光学狭缝掩膜

四、PCB 与精密电子

1. 精细线路菲林铬版高端 PCB、FPC 柔性线路板曝光母版

2. 精密电阻镍铬薄膜蚀刻贴片电阻、传感器电阻层加工

3. 微型电路遮光定位板

五、科研与高端制造

1. 实验室微纳加工掩膜高校、科研院所微纳图案制版

2. 安防摄像镜头遮光铬片车载摄像头、监控镜头内部遮光镀膜蚀刻

3. 光刻机配套专用铬掩模版

六、其他细分领域

• 生物芯片、微阵列芯片制版

• 光伏电池图形化遮光掩膜

• 印刷线路精密网版母版

核心特点适配所有领域

侧蚀小、精度高、不伤玻璃 / 石英基底、不伤光刻胶，是高精度湿法蚀刻铬膜首选药剂。